[发明专利]电子器件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201510020333.5 申请日: 2015-01-15
公开(公告)号: CN105845691B 公开(公告)日: 2019-12-13
发明(设计)人: 颜精一;蔡武卫;高伟程;陈韦翰 申请(专利权)人: 财团法人工业技术研究院
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77
代理公司: 11006 北京律诚同业知识产权代理有限公司 代理人: 梁挥;常大军
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;TW
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 根据本发明实施例提供一种包含至少一电子元件的电子器件及其制造方法。上述电子器件包括衬底、半导体层、绝缘层、第一金属层、软质层、至少一第一开孔以及至少一第二金属层。半导体层配置在衬底上,绝缘层配置在半导体层上,第一金属层配置在绝缘层上。绝缘层与半导体层或第一金属层的图案一致。软质层配置在衬底上,且包覆半导体层、绝缘层与第一金属层,软质层的杨氏系数小于40十亿帕斯卡。至少一第一开孔贯穿软质层。至少一第二金属层配置在软质层上以及第一开孔中,以电性连接半导体层。
搜索关键词: 电子器件 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种电子器件,其包含至少一电子元件,其特征在于,包括:/n一衬底;/n一半导体层,配置在该衬底上;/n一绝缘层,配置在该半导体层上;/n一第一金属层,配置在该绝缘层上,且该第一金属层与该绝缘层的图案一致;/n一保护层,配置在该第一金属层上,且该保护层与该第一金属层的图案一致;/n一软质层,配置在该衬底上,且包覆并直接接触该半导体层、该绝缘层、该第一金属层与该保护层;/n至少一第一开孔,贯穿该软质层以外露该半导体层;以及/n至少一第二金属层,配置在该软质层上与该至少一第一开孔中,且直接接触该半导体层。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于财团法人工业技术研究院,未经财团法人工业技术研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510020333.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top