[发明专利]一种静电吸盘及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201510023342.X 申请日: 2015-01-16
公开(公告)号: CN105845613B 公开(公告)日: 2019-03-22
发明(设计)人: 王锦喆 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: H01L21/683 分类号: H01L21/683
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 余明伟
地址: 201203 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种静电吸盘及其制造方法,所述制造方法包括步骤:提供一冷却基座,于所述冷却基座上制作包含有依次层叠的导热胶、绝缘层、电极层、电介质层、以及碳化层的多层结构,其中,将形成有电极层的电介质层进行一次烧结后再与绝缘层进行二次烧结,实现原子间的结合。本发明的静电吸盘的加工工艺与传统的加工工艺相比大大提高了其粘合强度,由于采用陶瓷烧结工艺,使得静电吸盘气泡的存在大大降低,从而可以有效降低废品率。
搜索关键词: 一种 静电 吸盘 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种静电吸盘的制造方法,其特征在于,所述制造方法包括步骤:提供一电介质层,于所述电介质层的一个表面上采用物理方法形成电极层;将形成有电极层的电介质层进行一次烧结;将绝缘层与一次烧结完成后的电介质层及电极层对齐后进行二次烧结,将电极层置于电介质层与绝缘层之间;将二次烧结后的电介质层、电极层及绝缘层中的绝缘层通过导热胶与冷却基座进行粘合;将电介质层、电极层及绝缘层与所述冷却基座粘合后,通过溅射或蒸镀工艺在所述电介质层表面形成碳化层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司,未经中芯国际集成电路制造(上海)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510023342.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top