[发明专利]基于AlN改性聚合物复合介质的TSV再分布层制备方法在审
申请号: | 201510024240.X | 申请日: | 2015-01-16 |
公开(公告)号: | CN104681485A | 公开(公告)日: | 2015-06-03 |
发明(设计)人: | 丁桂甫;罗江波;鹿雯;汪红 | 申请(专利权)人: | 上海交通大学 |
主分类号: | H01L21/768 | 分类号: | H01L21/768;H01L23/522 |
代理公司: | 上海汉声知识产权代理有限公司 31236 | 代理人: | 徐红银;郭国中 |
地址: | 200240 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供了一种基于AlN改性聚合物复合介质的TSV再分布层制备方法,包括以下步骤:(1)混合聚合物介质材料和AlN粉末;(2)在TSV晶圆上制备再分布层布线及上下层金属连接柱;(3)将混合浆料涂覆在再分布线已完成的晶圆表面;(4)固化混合浆料,形成AlN改性聚合物复合介质;(4)对复合介质层研磨平坦化,露出连接柱,即完成单层再分布层制备;(5)重复步骤(2)到步骤(4)即可获得多层再分布层。该方法流程具有简便、高效、低成本的优势,与常规工艺兼容。与传统聚合物介质相比,AlN改性聚合物介质具有更高的机械强度和热导率、更低的热膨胀系数,拥有明显的比较优势,在微电子封装领域具有良好的应用前景。 | ||
搜索关键词: | 基于 aln 改性 聚合物 复合 介质 tsv 再分 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种基于AlN改性聚合物复合介质的TSV再分布层制备方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)将液态有机聚合物介质前驱体和AlN粉末充分混合,使AlN粉末均匀分散在有机聚合物介质材料中,得到混合浆料;(2)在TSV晶圆上制备再分布层布线及上下层金属连接柱;(3)将步骤(1)所制备的混合浆料均匀涂覆在再分布互连线已经完成的晶圆表面;(4)烘干固化上述混合浆料,形成AlN改性的聚合物复合介质层;(5)对成型的复合介质层进行研磨平坦化处理,露出金属连接柱,即完成单层再分布层制备;(6)重复步骤(2)到步骤(4)即获得多层再分布层布线。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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