[发明专利]包含旋转部件的沉积膜形成装置在审
| 申请号： | 201510024399.1 | 申请日： | 2015-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN105839080A | 公开（公告）日： | 2016-08-10 |
| 发明（设计）人： | 吴忠锡;李裕进;李在鹤 | 申请（专利权）人： | TGO科技株式会社 |
| 主分类号： | C23C16/458 | 分类号： | C23C16/458;C23C16/52 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 姜虎;陈英俊 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及包含旋转部件的沉积膜形成装置。根据本发明的一实施例，提供一种沉积膜形成装置，其特征在于，包括多个基板支撑部，在每个所述基板支撑部上配置有用于分别旋转多个基板的多个旋转部件，每个所述旋转部件通过气垫方式在所述基板支撑部上进行旋转，在所述基板支撑部上除了所述多个旋转部件所处部分之外的部分设置有盖体，所述基板支撑部与所述盖体之前形成有间隙，在所述气垫方式中所使用的规定气体通过所述间隙被排出。 | ||
| 搜索关键词： | 包含 旋转 部件 沉积 形成 装置 | ||
【主权项】：
一种沉积膜形成装置，其特征在于，包括多个基板支撑部，在每个所述基板支撑部上配置有用于分别旋转多个基板的多个旋转部件，每个所述旋转部件通过气垫方式在所述基板支撑部上进行旋转，在所述基板支撑部上除了所述多个旋转部件所处部分之外的部分设置有盖体，所述基板支撑部与所述盖体之前形成有间隙，在所述气垫方式中所使用的规定气体通过所述间隙被排出。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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