[发明专利]一种天麻衍生物晶型及其制备方法、制剂与应用

摘要

本发明公开了一种天麻素衍生物晶型及其制备方法、制剂与应用。所述的天麻素衍生物晶型的粉末X-射线衍射图谱在4.7±0.2，8.1±0.2，9.9±0.2，17.8±0.2，19.6±0.2，22.6±0.2，23.4±0.2的2θ±0.2℃反射角处显示特征衍射峰。所述的制备方法是将天麻素衍生物粗品中加入质量体积比以g/ml计为110~200的有机溶剂，于60~90℃回流0.5~3h，冷却至0~30℃静置1~5h析晶，抽滤，洗涤滤饼，40~80℃减压干燥得到目标物。制剂为所述的天麻素衍生物晶型中加入药学上可接受的载体和辅料制备成片剂、胶囊剂、颗粒剂、冻干粉针剂和注射液。应用为所述的天麻素衍生物晶型在制备治疗中枢神经系统疾病药物中的应用。本发明所述的天麻素衍生物晶型具有极高的质量稳定性，其制备方法操作简单、生产成本低，易工业化生产且产品纯度高，达99%以上。

主权项

一种天麻素衍生物晶型，其特征在于所述天麻素衍生物化学名为4?（3,4,5?三羟基?6?羟甲基）?四氢?2H?吡喃?2?基氧基苯甲醛，结构式为：；所述天麻素衍生物晶型的粉末X?射线衍射图谱在4.7±0.2，8.1±0.2，9.9±0.2，17.8±0.2，19.6±0.2，22.6±0.2，23.4±0.2的2θ±0.2℃反射角处显示特征衍射峰。