[发明专利]一种开放环境下多参数连续可调型射流撞击雾化试验装置有效

专利信息
申请号: 201510026186.2 申请日: 2015-01-20
公开(公告)号: CN104596918B 公开(公告)日: 2017-05-24
发明(设计)人: 聂万胜;郑刚;吴高杨;蔡红华;安红辉;苏凌宇;何浩波;何博;冯伟;丰松江;侯志勇;车学科 申请(专利权)人: 中国人民解放军装备学院
主分类号: G01N19/00 分类号: G01N19/00
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司32200 代理人: 张惠忠
地址: 101416 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本申请公开了一种开放环境下多参数连续可调型射流撞击雾化试验装置,包括实验平台、一个竖直射流喷嘴、两个斜置射流喷嘴、能够上下升降的支架、以及设置在支架上的水平距离调节机构、角度调节机构和偏移量调节机构。采用上述结构后,上述水平距离调节机构,能用于两个斜置射流喷嘴的射流撞击前长度参数的连续调节。上述角度调节机构,能用于两个斜置射流喷嘴的射流撞击角参数的连续调节。偏移量调节机构,能用于两个斜置射流喷嘴的射流偏移量参数的连续调节。另外,上述3个调节机构巧妙利用千分尺或几何放大原理,调节精度高,操作简单直观、结构紧凑、可靠性高、试验精度高,维修方便。
搜索关键词: 一种 开放 环境 参数 连续 可调 射流 撞击 雾化 试验装置
【主权项】:
一种开放环境下多参数连续可调型射流撞击雾化试验装置,包括实验平台和固定设置于实验平台上方的三个射流喷嘴,其特征在于:——所述实验平台上至少设置有一根立柱和一个能沿立柱上下滑移的支架;——所述支架包括一个水平底架和带有支架横梁的前侧架;——三个所述射流喷嘴为一个竖直射流喷嘴和两个斜置射流喷嘴;其中,所述竖直射流喷嘴固定设置在支架横梁的底部中心;两个所述斜置射流喷嘴分别设置在竖直射流喷嘴的两侧;——所述水平底架上设置有水平距离调节机构,水平距离调节机构利用千分尺的原理,能连续用于调节两个斜置射流喷嘴的射流撞击前长度;——所述水平距离调节机构,包括设置于水平底架上的两个能水平左右滑移的滑块,以及两个用于调节滑块水平滑移的水平位移调节装置;每个滑块的前侧固定连接一个斜置射流喷嘴;每个所述水平位移调节装置均包括一根与滑块固定连接的水平连接杆,该水平连接杆的顶端依次设置有内置精密螺杆的微分筒、内置螺母的固定套筒和水平距离调节旋钮;水平位移调节装置的调节精度为10微米;——位于两个所述滑块后侧的水平支架上还设置有两个角度调节机构,两个角度调节机构均利用几何放大原理,分别用于调节相应斜置射流喷嘴的射流撞击角;——每个角度调节机构,均包括一个呈扇形的角度盘、一根连接轴和一个角度调节旋钮;——每个所述角度盘的外周设置有齿牙,每个所述角度调节旋钮内置有与齿牙相啮合的精密螺纹;每个角度盘旋转调节的精度为30″;——每根所述连接轴的一端与角度盘固定连接,连接轴的另一端能从相应的一个滑块中穿出并能相对该滑块转动;所述连接轴的穿出端与相应滑块前侧固定的斜置射流喷嘴固定连接;——在每个所述滑块与其前侧固定的斜置射流喷嘴之间,还设置有偏移量调节机构,偏移量调节机构利用千分尺原理,能连续用于两个斜置射流喷嘴的射流撞击偏移量的调节,能使2个或3个射流喷嘴位于同一个平面内进行射流撞击,也能使2个或3个射流喷嘴在一个立体空间内进行撞击;偏移量调节机构能使射流撞击偏移量的调节精度达到10微米;——偏移量调节机构包括一个偏移调节螺杆和一个偏移量调节旋钮。
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