[发明专利]硅片二次缺陷检测液及检测方法在审
| 申请号： | 201510026422.0 | 申请日： | 2015-01-20 |
| 公开（公告）号： | CN104596829A | 公开（公告）日： | 2015-05-06 |
| 发明（设计）人： | 宋耀德 | 申请（专利权）人： | 苏州同冠微电子有限公司 |
| 主分类号： | G01N1/32 | 分类号： | G01N1/32;G01N21/88 |
| 代理公司： | 常州佰业腾飞专利代理事务所(普通合伙) 32231 | 代理人： | 李杰 |
| 地址： | 江苏省苏州市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种硅片二次缺陷检测液及检测方法，所述检测液的组成包括硝酸铜溶液、氢氟酸溶液、三氧化铬溶液和硝酸溶液，所述硝酸铜溶液、氢氟酸溶液、三氧化铬溶液和硝酸溶液的体积比为4-7：4-7：2-4：2-4，所述硝酸铜溶液的质量分数为2～6％，氢氟酸溶液的质量分数为40～55％，三氧化铬溶液的质量分数为30～40％，硝酸溶液的质量分数为65～70％。所述检测方法包括：(1)用酸去除硅片的钝化层；(2)擦除硅片表面的残留物；(3)用制备的硅片二次缺陷检测液对硅片进行腐蚀处理；(4)对硅片表面进行清洗烘干并观察。本发明的检测液保存时间长，检测方法简单，检测效率高。 | ||
| 搜索关键词： | 硅片 二次 缺陷 检测 方法 | ||
【主权项】：
一种硅片二次缺陷检测液，其组成包括硝酸铜溶液、氢氟酸溶液、三氧化铬溶液和硝酸溶液，所述硝酸铜溶液、氢氟酸溶液、三氧化铬溶液和硝酸溶液的体积比为4‑7：4‑7：2‑4：2‑4，所述硝酸铜溶液的质量分数为2～6％，氢氟酸溶液的质量分数为40～55％，三氧化铬溶液的质量分数为30～40％，硝酸溶液的质量分数为65～70％。
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