[发明专利]用于浮空器的囊体装置有效
| 申请号： | 201510035851.4 | 申请日： | 2015-01-23 |
| 公开（公告）号： | CN104681920B | 公开（公告）日： | 2017-12-08 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 东莞前沿技术研究院;深圳光启空间技术有限公司 |
| 主分类号： | H01Q1/28 | 分类号： | H01Q1/28;H01Q15/02;H01Q19/06 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人： | 徐伟 |
| 地址： | 523000 广东省东莞市松山湖*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种用于浮空器的囊体装置，包括囊体；以及天线单元，该天线单元包括超材料结构，该超材料结构与该囊体形成一体；以及馈源，该馈源设置在浮空器内部并朝该超材料结构定向。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 浮空器 装置 | ||
【主权项】：
一种用于浮空器的囊体装置，其特征在于，包括：囊体，所述囊体包括由外至内依次层叠设置的防护层、气密层、载荷承力层，将这些层相互粘结的黏结层，以及设置于载荷承力层表面的焊接层；以及天线单元，所述天线单元包括：超材料结构，所述超材料结构与所述囊体形成一体，所述超材料结构包括形成在所述囊体的内表面、外表面或内部的至少一层的人造微结构，所述人造微结构设置于防护层、气密层、载荷承力层或焊接层表面，所述人造微结构由导电材料构成，所述人造微结构通过蚀刻、电镀、雕刻、蒸镀、溅射、丝印、钻刻、光刻、电子刻或离子刻工艺进行附着；以及馈源，所述馈源设置在浮空器内部并朝所述超材料结构定向。
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