[发明专利]一种在PS扩散板上制备纳米易清洁表面的方法有效
| 申请号： | 201510038876.X | 申请日： | 2015-01-26 |
| 公开（公告）号： | CN104693465B | 公开（公告）日： | 2018-03-16 |
| 发明（设计）人： | 袁志庆;庄壮坤 | 申请（专利权）人： | 深圳市天诺通光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C08J7/04 | 分类号： | C08J7/04;C08J7/00;C09D125/04;C09D7/61;C08L25/06 |
| 代理公司： | 深圳中一专利商标事务所44237 | 代理人： | 张全文 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市龙华新区观澜*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明适用于扩散板领域，提供了一种在PS扩散板上制备纳米易清洁表面的方法，包括下述步骤将聚苯乙烯溶解于有机溶剂中，形成聚苯乙烯溶液；在所述聚苯乙烯溶液中添加所述聚苯乙烯2‑5倍质量的纳米二氧化硅进行混合处理，形成聚苯乙烯‑纳米二氧化硅混合溶液；将所述聚苯乙烯‑纳米二氧化硅混合溶液均匀涂布于PS扩散板上，进行加热处理。获得的具有纳米易清洁表面的PS扩散板表面与水的接触角大于140°，其表面的灰尘只需少量水稍微冲洗即可清除。 | ||
| 搜索关键词： | 透镜 阵列 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
一种在PS扩散板上制备纳米易清洁表面的方法，包括下述步骤：制备聚苯乙烯溶液：将聚苯乙烯溶解于有机溶剂中，形成聚苯乙烯溶液；制备聚苯乙烯‑纳米二氧化硅混合溶液：在所述聚苯乙烯溶液中添加所述聚苯乙烯2‑5倍质量的纳米二氧化硅进行混合处理，形成聚苯乙烯‑纳米二氧化硅混合溶液；制备纳米易清洁表面：将所述聚苯乙烯‑纳米二氧化硅混合溶液均匀涂布于PS扩散板上，进行加热处理；所述纳米二氧化硅由粒径分别为100nm和50nm的球形纳米二氧化硅组成。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市天诺通光电科技有限公司，未经深圳市天诺通光电科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201510038876.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：利用废弃贝壳生产制作餐具的方法
- 下一篇：含有稀土的电脑屏幕保护膜
