[发明专利]非接触式物理蚀刻系统

摘要

本发明公开一种非接触式物理蚀刻系统，其由一工作腔体、一空心腔体、一工作气体供应装置、一等离子产生装置、一第一遮罩、以及一载台所构成。不同于现有的湿式蚀刻设备与干式蚀刻设备，此非接触式物理蚀刻系统不需要事先对靶材(待蚀刻物)执行任何光刻工艺，便能够执行通过第一遮罩对靶材进行一非接触式蚀刻作业。于进行该非接触式蚀刻作业的过程中，藉由产生于第一遮罩表面的自发边界电场的作用，进而促使输入于空心腔体之中的等离子穿过该第一遮罩之上的至少一第一孔洞而轰击该载台上的靶材，进而以纯物理的方式蚀刻或切割该靶材。

主权项

一种非接触式物理蚀刻系统，其特征在于，包括：一工作腔体，其内部设有一分隔件，且该分隔件将该工作腔体分隔为一第一腔室与一第二腔室；其中，该第一腔室作为一等离子供给腔室，且该第二腔室作为一等离子蚀刻腔室；一空心腔体，设于该分隔件的上并同时贯穿该第一腔室与该第二腔室；一工作气体供应装置，连接该工作腔体以供应一工作气体至该工作腔体，使得该工作气体于位于该第一腔室的该空心腔体之中形成一等离子；一第一遮罩，设于该第二腔室之中并连接于该空心腔体，用以防止该等离子形成之后便直接地沿着该空心腔体内部而自该第一腔室往该第二腔室移动；同时，该第一遮罩更作为该等离子的一自发边界电场的一触发件；以及一载台，可移动式地设于该第二腔室之中，并相对于该第一遮罩；其中，该空心腔体之中的该等离子会为了维持其整体的电中性而在该第一遮罩的表面产生该自发边界电场；其中，受到垂直于该第一遮罩表面的该自发边界电场的作用，该等离子内的多个等离子的离子会穿过该第一遮罩之上的至少一第一图形而轰击该载台上的一靶材，进而蚀刻或切割该靶材。