[发明专利]一种柔性铁电存储器及其制备方法在审
申请号: | 201510042251.0 | 申请日: | 2015-01-28 |
公开(公告)号: | CN105990522A | 公开(公告)日: | 2016-10-05 |
发明(设计)人: | 龚慧兰 | 申请(专利权)人: | 泓准达科技(上海)有限公司 |
主分类号: | H01L51/05 | 分类号: | H01L51/05;H01L51/10;H01L51/30;H01L51/40 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 201203 上海市浦东新区张*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种柔性铁电存储器及其制备方法,所述柔性铁电存储器包括:在柔性衬底层上设置单晶硅纳米薄膜沟道层,在单晶硅纳米薄膜沟道层上设置源电极与漏电极、在源电极与漏电极上设置的阻挡层、在阻挡层上设置的铁电聚合物层,在铁电聚合物层上设置门电极,本发明还提供一种制备柔性铁电存储器的方法,本发明提供的一种柔性铁电存储器及其制备方法,上述结构的柔性铁电存储器能在150℃之下制备,制备好的柔性铁电存储器在偏置电压下表现出良好的开关状态,开关电压约4±V,开关比约200倍,符合存储器要求,在经过多次弯曲后,仍可保持良好的存储性能,具有高可靠性。 | ||
搜索关键词: | 一种 柔性 存储器 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种柔性铁电存储器,其特征在于,所述柔性铁电存储器包括柔性衬底层、柔性衬底层上的柔性沟道层、柔性沟道层上的源电极与漏电极、源电极与漏电极上的阻挡层、阻挡层上的铁电聚合物层及铁电聚合物层上的门电极,所述柔性沟道层为单晶硅纳米薄膜。
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