[发明专利]一种光敏聚合物修饰的吸附材料及其制备方法和用途

摘要

本发明公开了一种光敏聚合物修饰的吸附材料及其制备方法和用途。具体而言，本发明的制备方法包括如下步骤1）螺吡喃型光敏感单体的合成；2）基底材料的硅烷偶联剂修饰；3）光敏感单体与修饰化基底材料的共聚。通过该方法制备的光敏聚合物修饰的吸附材料不仅增强了原有基底材料的油水选择性及保油性能，同时赋予了该吸附材料光控吸附/脱附油类及有机溶剂的特性，与目前依靠机械压力挤压脱油的方法相比更加智能化，所受的空间及时间限制更小，易于操作。

主权项

一种螺吡喃型光敏聚合物修饰的吸附材料的制备方法，其包括如下步骤：1)光敏感单体的合成：在惰性气体保护下，将螺吡喃溶解于无水溶剂中，滴加不饱和酰化试剂后，在冰浴条件下反应10～20小时，反应结束后，减压除去溶剂，经色谱法纯化，真空干燥，得到光敏感单体；其中：所述螺吡喃与不饱和酰化试剂的摩尔比为1:1.1～3，所述螺吡喃的结构式如下所示：2)基底材料的修饰：按照1:400～500的浴比，将基底材料在修饰液中浸没5～20分钟，取出并挤干修饰液，然后用有机溶剂洗涤，于100℃烘干，得到修饰化基底材料；其中：所述修饰液为硅烷偶联剂在甲苯或N,N‑二甲基甲酰胺中的溶液，所述修饰液中硅烷偶联剂的重量百分比为0.5～2％，所述硅烷偶联剂选自乙烯基三氯硅烷、γ‑(2‑甲基丙烯酰氧基)丙基三甲氧基硅烷、β‑(2‑甲基丙烯酰氧基)乙基三乙酰氧基硅烷、γ‑(异戊烯酰氧基)丙基三乙氧基硅烷中的任意一种；3)光敏感单体与修饰化基底材料的共聚：按照1:300～500的浴比，将步骤2)中得到的修饰化基底材料浸没于共聚液中，反复挤压后，在惰性气体保护下于65～75℃反应12～24小时，取出并挤干共聚液，然后用低极性溶剂洗涤，于100℃烘干，得到螺吡喃型光敏聚合物修饰的吸附材料；其中：所述共聚液为步骤1)中得到的光敏感单体和共聚引发剂在环己酮或N,N‑二甲基甲酰胺中的溶液，所述共聚液中光敏感单体的重量百分比为2～6％，共聚引发剂与光敏感单体的摩尔比为1:70～100。