[发明专利]一种抛光砖的抛光工艺在审
| 申请号： | 201510048915.4 | 申请日： | 2015-01-30 |
| 公开（公告）号： | CN105983885A | 公开（公告）日： | 2016-10-05 |
| 发明（设计）人： | 杨斌 | 申请（专利权）人： | 重庆广鼎道路设施有限公司 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 401346 重*** | 国省代码： | 重庆;50 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种抛光砖的抛光工艺，其特征在于，包括如下步骤：1）前磨边：对砖体进行尺寸上的首次初步修正；2）刮平：对砖体厚度进行修正，使其达到要求厚度；3）抛光: 分为粗抛、中抛和精抛，从最初的120目到最终的3000目，用材质为硬塑料的刷子对砖体进行抛光处理;4)后磨边:对砖体尺寸进行二次修正，以达到规定的标准尺寸，该环节精度高;5)检测：人工对砖面的平整度进行复查，保证产品质量，通过机器对砖面的平整度进行检测，检出凸面和凹面的不合格砖，通过对砖体拉对角线，审核砖体尺寸；6）超洁亮:通过材质为布条和刷子的超洁亮处理机在砖面进行高度运转，进行超洁亮处理;7)打蜡：为砖面附上一层蜡水。使用该工艺进行抛光砖抛光规范规范，生产过程简单，生产效率高，抛光砖生产质量高，抛光效果好，砖面亮度亮。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 抛光 工艺 | ||
【主权项】：
一种抛光砖的抛光工艺，其特征在于，包括如下步骤：1）前磨边：对砖体进行尺寸上的首次初步修正；2）刮平：对砖体厚度进行修正，使其达到要求厚度；3）抛光: 分为粗抛、中抛和精抛，从最初的120目到最终的3000目，用材质为硬塑料的刷子对砖体进行抛光处理;4) 后磨边:对砖体尺寸进行二次修正，以达到规定的标准尺寸，该环节精度高;5)检测：人工对砖面的平整度进行复查，保证产品质量，通过机器对砖面的平整度进行检测，检出凸面和凹面的不合格砖，通过对砖体拉对角线，审核砖体尺寸；6）超洁亮:通过材质为布条和刷子的超洁亮处理机在砖面进行高度运转，进行超洁亮处理;7) 打蜡：为砖面附上一层蜡水。
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