[发明专利]IGBT元胞结构及其制造工艺在审

专利信息
申请号: 201510051177.9 申请日: 2015-01-30
公开(公告)号: CN105990407A 公开(公告)日: 2016-10-05
发明(设计)人: 张志娟;郝建勇;周炳 申请(专利权)人: 张家港意发功率半导体有限公司
主分类号: H01L29/739 分类号: H01L29/739;H01L29/06;H01L21/331
代理公司: 常州佰业腾飞专利代理事务所(普通合伙) 32231 代理人: 鞠明
地址: 215600 江苏省苏州市张家港*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种IGBT元胞结构,IGBT元胞结构的多晶硅孔为八边形。本发明IGBT元胞结构及其制造工艺,(1)IGBT有源区元胞也就是多晶硅孔,类似八边形,但较八边形形状平滑。此形状结合整个IGBT元胞结构,较现有的六边形、长条形、方形元胞结构,具有电流密度大,通态压降低,工艺制作简单等优点,(2)本发明能够较好的折中导通损耗和开关损耗之间的关系。
搜索关键词: igbt 结构 及其 制造 工艺
【主权项】:
一种IGBT元胞结构,其特征是:所述IGBT元胞结构的多晶硅孔(11)为八边形。
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