[发明专利]化学机械研磨设备及方法有效
申请号: | 201510051593.9 | 申请日: | 2015-01-30 |
公开(公告)号: | CN105983890B | 公开(公告)日: | 2018-06-29 |
发明(设计)人: | 伍强;蒋运涛;杨俊 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | B24B21/04 | 分类号: | B24B21/04;B24B21/18;B24B57/02;B24B49/12 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 万铁占;骆苏华 |
地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种化学机械研磨设备及方法,其中化学机械研磨设备包括:载片台;研磨机构,包括能够沿第二直线方向重复移动的研磨件,第一、二直线方向垂相互垂直;研磨液注入机构,用于向研磨件注入研磨液;研磨清洗机构,与研磨机构沿第一直线方向相对设置;膜厚测量机构,用于测量清洗后的待研磨片厚度。在化学机械研磨过程中,对移动中的待研磨片边研磨、边清洗和边测量。使用本设备,实时测量的研磨后的待研磨片厚度,控制研磨过程中待研磨片的研磨量,确保待研磨片研磨后的厚度为目标厚度,提升产品合格率,减少废片量产生,降低生产成本。 | ||
搜索关键词: | 研磨 研磨片 化学机械研磨设备 研磨机构 研磨件 研磨液 清洗 测量 化学机械研磨过程 产品合格率 方向相对 膜厚测量 清洗机构 实时测量 重复移动 注入机构 研磨量 载片台 废片 垂直 移动 | ||
【主权项】:
1.一种化学机械研磨设备,其特征在于,包括:研磨区,具有进片口和出片口;载片台,其上表面设有载片区,且能够从所述进片口沿第一直线方向朝向出片口移动;位于研磨区的研磨机构,包括:沿第二直线方向延伸、且能够沿所述第二直线方向重复移动的研磨件,用于研磨待研磨片,所述第二直线方向垂直于第一直线方向;研磨液注入机构,用于向所述研磨件研磨待研磨片的区域注入研磨液;研磨清洗机构,与所述研磨机构沿所述第一直线方向相对设置,用于清洗研磨后的待研磨片;膜厚测量机构,位于所述研磨清洗机构沿第一直线方向与研磨机构相对的另一侧,用于测量清洗后的待研磨片厚度。
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