[发明专利]一种掩膜板及扫描曝光机台焦距的监测方法

摘要

本发明提供一种掩膜板及扫描曝光机台焦距的监测方法，所述掩膜板包括透明基底；第一遮光层，覆盖所述透明基底的部分上表面；孔洞，位于所述第一遮光层中并暴露所述透明基底，所述孔洞由两个弧形边顶点相交且对称的半圆形构成；空白区，位于所述第一遮光层的一侧；第二遮光层，覆盖所述透明基底的整个下表面；透光的焦距图形对，间隔设置于所述第二遮光层中；透光的参考图形对，间隔设置于所述第二遮光层中位于所述焦距图形对的一侧。以及利用上述掩膜板监测扫描曝光机台焦距的方法，利用特殊的掩膜板，通过将曝光机台焦距转化为套刻偏移量，利用现有的套刻偏移量测量设备，来实现对焦距的测量，测得数据准确，操作简单，降低了误差测量成本。

主权项

一种用于监测扫描曝光机台焦距的掩膜板，包括：透明基底；第一遮光层，覆盖所述透明基底的部分上表面；孔洞，位于所述第一遮光层中并暴露所述透明基底，所述孔洞由两个弧形边顶点相交且对称的半圆形构成；空白区，位于所述第一遮光层的一侧；第二遮光层，覆盖所述透明基底的整个下表面；透光的焦距图形对，间隔设置于所述第二遮光层中，分别对应所述孔洞的两个半圆形，并且关于通过所述孔洞的半圆形弧形边的顶点与半圆形的直径边平行的轴线对称，其中，每个所述焦距图形的一半图案对应所述孔洞内的透光区域；透光的参考图形对，间隔设置于所述第二遮光层中位于所述焦距图形对的一侧，与所述空白区对应，该间隔与所述透光的焦距图形对的间隔相等。