[发明专利]带有集成加热器的GE/SI雪崩光电二极管及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201510056869.2 申请日: 2015-02-04
公开(公告)号: CN105140316B 公开(公告)日: 2017-10-13
发明(设计)人: 石拓;蔡鹏飞;王良波;张耐;陈旺;栗粟;洪菁吟;黄梦园;潘栋 申请(专利权)人: 硅光电科技股份有限公司
主分类号: H01L31/02 分类号: H01L31/02;H01L31/0203;H01L27/14;H01L31/024;H01L31/107;H01L31/18
代理公司: 北京京万通知识产权代理有限公司11440 代理人: 许天易
地址: 美国马萨诸*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供了一种带有集成加热器的Ge/Si雪崩光电二极管的新颖结构及其制作方法的各种不同的实施例。在一方面,在顶面硅层或者硅基板层上形成掺杂区,以起到电阻的作用。当环境温度降低到某个点时,将自动触发温度控制回路并沿着加热器施加适当的偏置,因此,Ge/Si雪崩光电二极管的结合区的温度被保持在优化的范围以内,以保持该雪崩光电二极管的高灵敏度水平以及低误码率水平。
搜索关键词: 带有 集成 加热器 ge si 雪崩 光电二极管 及其 制作方法
【主权项】:
一种Ge/Si雪崩光电二极管装置,包括:基板;至少一个顶面被照亮的Ge/Si雪崩光电二极管,其在所述基板的第一侧面上,所述Ge/Si雪崩光电二极管包括:第一Si层,其以第一类型掺杂剂掺杂;第二Si层,其作为倍增层,为非故意地掺杂,或以浓度低于5E17cm‑3的所述第一类型掺杂剂轻微地掺杂,或以浓度低于5E17cm‑3的第二类型掺杂剂轻微地掺杂;电荷层,其被以所述第二类型掺杂剂掺杂;Ge层,其作为吸收层,为非故意地掺杂,或以浓度低于5E17cm‑3的所述第一类型掺杂剂轻微地掺杂,或以浓度低于5E17cm‑3的所述第二类型掺杂剂轻微地掺杂;以及掺杂层,其被以所述第二类型掺杂剂掺杂;以及至少一个加热器,其被集成在所述基板之中或之上,其中,当环境温度在阈值温度以下时,控制回路自动响应并施加偏置于其上,所述至少一个加热器被配置成增加所述Ge/Si雪崩光电二极管结构的温度,以保持所述Ge/Si雪崩光电二极管结构的灵敏度水平。
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