[发明专利]电子光学装置、电子光学装置的制造方法、电子设备有效

专利信息
申请号: 201510061871.9 申请日: 2015-02-05
公开(公告)号: CN104835829B 公开(公告)日: 2018-10-23
发明(设计)人: 村田贤志 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L51/52;H01L51/56
代理公司: 北京金信知识产权代理有限公司 11225 代理人: 黄威;苏萌萌
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种电子光学装置、电子光学装置的制造方法、电子设备。所述显示装置为配置有多个像素的显示装置,其特征在于,像素具有在Z方向上依次层叠的反射层、光学距离调整层、像素电极、绝缘膜、发光功能层、对置电极,绝缘膜具有与像素电极的一部分重叠的开口,反射层以跨及多个像素的方式而被配置,且具有反射率较高的部分(第一基底膜与反射膜层叠的部分)、反射率较低的部分(第二基底膜与反射膜层叠的部分),反射率较高的部分(第一基底膜与反射膜层叠的部分)以在俯视观察时与开口的至少一部分重叠的方式而被配置。
搜索关键词: 电子光学 装置 制造 方法 电子设备
【主权项】:
1.一种电子光学装置,其特征在于,配置有多个像素,在所述电子光学装置中,所述像素在第一方向上具有反射层以及依次层叠在所述反射层上的光学距离调整层、像素电极、绝缘膜、发光功能层和对置电极,所述绝缘膜具有与所述像素电极的一部分重叠的开口,所述反射层以跨及多个所述像素的方式而被配置,且具有反射率较高的部分和与所述反射率较高的部分相比反射率较低的部分,所述反射率较高的部分以在俯视观察时与所述开口的至少一部分重叠的方式而被配置,所述反射层和所述对置电极之间的光学距离被设定为针对每个所述像素而使特定波长区域的光共振的光路长度。
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