[发明专利]积体电感结构有效
申请号: | 201510063666.6 | 申请日: | 2015-02-06 |
公开(公告)号: | CN105990322B | 公开(公告)日: | 2019-03-15 |
发明(设计)人: | 颜孝璁;简育生;叶达勋 | 申请(专利权)人: | 瑞昱半导体股份有限公司 |
主分类号: | H01L23/64 | 分类号: | H01L23/64 |
代理公司: | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人: | 章社杲;李伟 |
地址: | 中国台湾新竹*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种积体电感结构包含保护环、图案式接地防护层及电感。保护环包含内环、外环及交错结构,上述内环配置于第一金属层,并包含至少二内环开口,外环配置于第二金属层,并包含至少一外环开口,交错结构用以交错耦接于至少二内环开口其中一者及外环开口,俾使外环开口封闭。图案式接地防护层配置于内环的内侧,并耦接于内环及外环。电感形成于保护环及图案式接地防护层之上。 | ||
搜索关键词: | 电感 结构 | ||
【主权项】:
1.一种积体电感结构,包含:一保护环(guard ring),包含:一内环,配置于一第一金属层,并包含至少二个内环开口;一外环,配置于一第二金属层,并包含至少一个外环开口;一交错结构,交错耦接于该至少二个内环开口其中一者及该外环开口,俾使该外环开口封闭;一图案式接地防护层,配置于该内环的内侧,并耦接于该内环及该外环;以及一电感,形成于该保护环及该图案式接地防护层之上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于瑞昱半导体股份有限公司,未经瑞昱半导体股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510063666.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:半导体元件及其制造方法
- 下一篇:一种基于铁镍多元合金磁芯的微型薄膜电感