[发明专利]积体电感结构有效

专利信息
申请号: 201510063666.6 申请日: 2015-02-06
公开(公告)号: CN105990322B 公开(公告)日: 2019-03-15
发明(设计)人: 颜孝璁;简育生;叶达勋 申请(专利权)人: 瑞昱半导体股份有限公司
主分类号: H01L23/64 分类号: H01L23/64
代理公司: 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 代理人: 章社杲;李伟
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种积体电感结构包含保护环、图案式接地防护层及电感。保护环包含内环、外环及交错结构,上述内环配置于第一金属层,并包含至少二内环开口,外环配置于第二金属层,并包含至少一外环开口,交错结构用以交错耦接于至少二内环开口其中一者及外环开口,俾使外环开口封闭。图案式接地防护层配置于内环的内侧,并耦接于内环及外环。电感形成于保护环及图案式接地防护层之上。
搜索关键词: 电感 结构
【主权项】:
1.一种积体电感结构,包含:一保护环(guard ring),包含:一内环,配置于一第一金属层,并包含至少二个内环开口;一外环,配置于一第二金属层,并包含至少一个外环开口;一交错结构,交错耦接于该至少二个内环开口其中一者及该外环开口,俾使该外环开口封闭;一图案式接地防护层,配置于该内环的内侧,并耦接于该内环及该外环;以及一电感,形成于该保护环及该图案式接地防护层之上。
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