[发明专利]一种掩模图形灰度化方法有效

专利信息
申请号: 201510064898.3 申请日: 2015-02-09
公开(公告)号: CN105989589B 公开(公告)日: 2019-01-18
发明(设计)人: 李玉龙;施忞;王天寅;许琦欣 申请(专利权)人: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
主分类号: G06T7/10 分类号: G06T7/10;G06T3/40;G03F1/76
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 屈蘅
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开一种掩模图形灰度化方法,其特征在于,包括:步骤一:将原始掩模图形转换后进行特征图形识别;步骤二:根据已识别出来的所述特征图形计算各自特征值;步骤三:判断所述的各自特征值,是否小于一临界值?依此将所述原始掩模图形中的所述特征图像进行分离为HP图形单元和HE图形单元;步骤四:对分离后的所述HP图形单元进行HP灰度化或者对分离后的所述HE图形单元进行HE灰度化;步骤五:对所述HP灰度化及所述HE灰度化的数字掩模按照所述原始掩模图形中的位置进行拼接。
搜索关键词: 一种 图形 灰度 方法
【主权项】:
1.一种掩模图形灰度化方法,其特征在于,包括:步骤一:将原始掩模图形转换后进行特征图形识别;步骤二:根据已识别出来的所述特征图形计算各自特征值;步骤三:判断所述的各自特征值是否小于一临界值,依此将所述原始掩模图形中的所述特征图形进行分离为HP图形单元和HE图形单元;步骤四:对分离后的所述HP图形单元进行HP灰度化,对分离后的所述HE图形单元进行HE灰度化;步骤五:对所述HP灰度化及所述HE灰度化的数字掩模按照所述原始掩模图形中的位置进行拼接。
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