[发明专利]一种有效矫正磁共振成像系统的主磁场的方法有效

专利信息
申请号: 201510066599.3 申请日: 2015-02-09
公开(公告)号: CN104714201B 公开(公告)日: 2018-01-12
发明(设计)人: 夏灵;孔霞;刘锋 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: G01R33/565 分类号: G01R33/565
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司33200 代理人: 陈昱彤
地址: 310058 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种有效矫正磁共振成像系统的主磁场的方法。在磁共振成像系统的扫描过程中,病床将磁共振成像系统的成像空间分割为两个部分成像扫描过程中涉及到的病床上方的那部分成像空间,脱离成像扫描的病床以下的那部分成像空间。当磁共振成像系统的成像空间中位于病床以下的那部分成像空间存在大于该系统的主磁场的目标均匀度的田型谐波分量时,可以仅针对成像扫描过程中涉及到的病床上方的那部分成像空间进行匀场;否则对磁共振成像系统的整个成像空间进行匀场。本发明方法不会改变标准的匀场硬件系统,适用于绝大部分用于人体成像的磁共振成像系统。
搜索关键词: 一种 有效 矫正 磁共振 成像 系统 磁场 方法
【主权项】:
一种有效矫正磁共振成像系统的主磁场的方法,其特征是,包括:建立磁共振成像系统的敏感系数矩阵,所述敏感系数矩阵包括第一成像空间的敏感系数矩阵和第二成像空间的敏感系数矩阵,其中,所述第一成像空间是指磁共振成像系统的整个成像空间,所述第二成像空间是指由所述第一成像空间中位于病床上方的那部分与所述第一成像空间中被病床所截得的截面共同构成的空间;并且,还包括如下步骤:(a)测量出所述第一成像空间的球体表面的所有采样点的初始磁场的磁通密度的分布情况,然后,对所述第一成像空间的球体表面的所有采样点处的磁场的磁通密度进行解卷积得到所述第一成像空间的磁场的主要谐波分量;接着,将所述第一成像空间中位于病床以下的那部分成像空间的球体表面的所有采样点的磁场的磁通密度的分布情况映射到所述第一成像空间中被病床所截得的截面而得到该截面的所有采样点的初始磁场的磁通密度的分布情况,并由此得到第二成像空间的表面的所有采样点的初始磁场的磁通密度的分布情况,所述第二成像空间的表面的采样点包括由所述第一成像空间中位于病床以下的那部分成像空间的球体表面的采样点以球坐标中相同的径向和纬向的角坐标映射到所述截面而得到的采样点以及第一成像空间中位于病床上方的那部分成像空间的球体表面的采样点;(b)根据所述步骤(a)得到的第一成像空间的球体表面的所有采样点的初始磁场的磁通密度的分布情况,判断第一成像空间中位于病床以下的那部分成像空间是否存在大于所述磁共振成像系统的主磁场的目标均匀度的田型谐波分量:如果存在,则根据第二成像空间的敏感系数矩阵来设置第二成像空间的表面的采样点的磁场约束,以使第二成像空间的表面的所有采样点的初始磁场和匀场片产生的磁场加和之后得到的磁场的均匀度在所述磁共振成像系统的主磁场的目标均匀度以内,然后执行步骤(c);如果不存在,则根据第一成像空间的敏感系数矩阵设置所述第一成像空间的球体表面的采样点的磁场约束,以使第一成像空间的球体表面的采样点的初始磁场和匀场片产生的磁场加和之后得到的磁场的均匀度在所述磁共振成像系统的主磁场的目标均匀度以内,然后执行步骤(d);(c)用匀场片的厚度的加权和作为目标函数来建立最小化优化模型;根据步骤(b)中设置的所述第二成像空间的表面的采样点的磁场约束和匀场片的厚度的约束对所述优化模型进行约束;然后根据约束后的优化模型,用线性规划算法优化各个匀场片的厚度,然后执行步骤(e);(d)用匀场片的厚度的加权和作为目标函数来建立最小化优化模型;根据步骤(b)中设置的所述第一成像空间的球体表面的采样点的磁场约束和匀场片的厚度的约束对所述优化模型进行约束;然后根据约束后的优化模型,用线性规划算法优化各个匀场片的厚度,然后执行步骤(f);(e)根据各个匀场片的优化后的厚度分布装载匀场片,然后测量第二成像空间的表面的采样点的磁场的磁通密度的分布情况,判断所述第二成像空间的磁场的均匀度是否在所述磁共振成像系统的主磁场的目标均匀度以内,如果是,则结束;如果不是,则返回执行步骤(a);(f)根据各个匀场片的优化后的厚度分布装载匀场片,然后测量第一成像空间的球体表面的采样点的磁场的磁通密度的分布情况,判断所述第一成像空间的磁场的均匀度是否在所述磁共振成像系统的主磁场的目标均匀度以内,如果是,则结束;如果不是,则返回执行步骤(a)。
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