[发明专利]一种光刻机的接近式间隙曝光工件台有效

专利信息
申请号: 201510068150.0 申请日: 2015-02-10
公开(公告)号: CN104570622B 公开(公告)日: 2016-10-19
发明(设计)人: 龚健文;胡松;杨春利 申请(专利权)人: 中国科学院光电技术研究所
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 610209 *** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种光刻机的接近式间隙曝光工件台,该工件台用于光刻机中实现样片与掩模板的接近式曝光。该工件台以掩模架和掩模板为水平基准,利用升降驱动机构带动三点弹性支撑机构、承片台、基片上升,通过自动伸出的三个等直径钢球与基准掩模板接触调平后,气动及控制机构锁紧三点弹性支撑机构,同时升降驱动机构停止上升,此时实现并保持样片与掩模板平行;接着升降驱动机构下降某个特定的距离后停止运动,三个钢球收缩返回,最后升降驱动机构再向上运动,一直到样片与掩模板间隙为某一要求值时停止上升,实现样片与掩模板接近式间隙曝光。该工件台能自动完成样片与掩模板的调平并保持一定的曝光间隙,延长了掩模板的使用寿命。
搜索关键词: 一种 光刻 接近 间隙 曝光 工件
【主权项】:
一种光刻机的接近式间隙曝光工件台,其特征在于:包括掩模板(1)、掩模架(2)、滑块(3)、旋转铜圈(4)、钢球(5)、样片(6)、承片台(7)、三点弹性支撑机构(8)、锁紧气缸(9)、升降驱动机构(10)、主控制器(11)、控制电路板(12)、正压输入端(13)、负压输入端(14)、电控阀门(15)、限位机构(16)和驱动气缸(17);所述掩模板(1)位于掩模架(2)上方并固接;所述掩模架(2)上表面有真空槽,用于吸紧掩模板(1),掩模架(2)内腔设置有滑块(3)的径向导向槽,用于滑块(3)导向;所述滑块(3)、钢球(5)以及旋转铜圈(4)嵌入在掩模架(2)内腔中,钢球(5)镶嵌在滑块(3)端部,旋转铜圈(4)上设置有3处滑槽,旋转铜圈(4)旋转运动带动滑块(3)径向伸缩运动;所述承片台(7)设置有真空槽,用于吸附固定样片(6);所述三点弹性支撑机构(8)与承片台(7)通过柔性铰链连接,用于样片(6)调平;所述驱动气缸(17)和锁紧气缸(9)分别用于驱动旋转铜圈(4)旋转和锁紧三点弹性支撑机构(8);所述升降驱动机构(10)设置有限位机构(16),用于停止升降驱动机构(10)运动;所述正压输入端(13)通过电控阀门(15)分别与锁紧气缸(9)和驱动气缸(17)连接;所述负压输入端(14)通过电控阀门(15)分别与掩模架(2)和承片台(7)连接;所述驱动控制板(12)分别与电控阀门(15)和主控制器(11)连接。
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