[发明专利]基于样本库和数据拟合的快速三维掩模衍射近场计算方法

摘要

本发明一种基于样本库和数据拟合的快速三维掩模衍射近场计算方法的具体过程为：建立三维掩模衍射矩阵样本库，并计算对应于凸角、凹角和边缘区域的衍射近场数据修正因子；对于一个需要计算其衍射近场的三维掩模，确定掩模上的观测点，并为每个观测点分配一个子区域；以每个观测点为中心，在其周围掩模区域内取一个正方形区域；根据此正方形区域和样本库，采用核回归技术和数据拟合方法，分别计算每个观测点对应的衍射矩阵回归结果；最后，将所有观测点的衍射矩阵回归结果填充到对应的子区域中，从而拼接成对应整个三维掩模的衍射矩阵计算结果。该方法能够考虑三维掩模图形中的拐角结构对其衍射近场的影响，提高三维掩模衍射近场的计算精度。

主权项

1.一种基于样本库和数据拟合的快速三维掩模衍射近场计算方法，其特征在于，具体步骤为：步骤101、针对三维掩模的XX、XY、YX和YY衍射矩阵，分别建立样本库，其中，XX衍射矩阵表示单位强度的X偏振入射电场经过三维掩模后所产生的X偏振的近场衍射电场分布；XY衍射矩阵表示单位强度的X偏振入射电场经过三维掩模后所产生的Y偏振的近场衍射电场分布；YY衍射矩阵表示单位强度的Y偏振入射电场经过三维掩模后所产生的Y偏振的近场衍射电场分布；YX衍射矩阵表示单位强度的Y偏振入射电场经过三维掩模后所产生的X偏振的近场衍射电场分布；步骤102、分别针对三维掩模的XX、XY、YX和YY衍射矩阵，计算对应于凸角即内角为90°的角、凹角即内角为270°的角和边缘区域的衍射近场数据的修正因子；步骤103、对于一个需要计算其衍射近场数据的三维掩模M，确定掩模图形中的观测点，并将确定的观测点记为P_k，其中掩模图形中的观测点包括凸角顶点、凹角顶点和掩模图形边缘上的观测点；步骤104、在掩模图形M上，为步骤103中的每一个观测点P_k分配一个子区域Map_k，每一个子区域中仅包含一个观测点；步骤105、以每一个观测点P_k为中心，在其周围掩模区域内取一个尺寸为w×w的正方形区域，并将该区域内的掩模图形存为一个w×w的矩阵M_k，其中w表示M_k的单边像素数；步骤106、针对每个观测点P_k，分别采用XX、XY、YX和YY衍射矩阵样本库进行核回归；根据步骤105中所述矩阵M_k和步骤102中计算的衍射近场数据修正因子，分别从XX、XY、YX和YY衍射矩阵样本库中选择先验的衍射矩阵数据进行加权平均，生成对应于观测点P_k的XX、XY、YX和YY衍射矩阵回归结果；步骤107、分别将观测点P_k的XX、XY、YX和YY衍射矩阵回归结果填充到对应的子区域Map_k中，从而拼接成对应整个三维掩模的XX、XY、YX和YY衍射矩阵回归结果，并将上述XX、XY、YX和YY衍射矩阵回归结果确定为衍射矩阵的最终计算结果，作为三维掩模衍射近场的最终计算数据。