[发明专利]一种气固表面反应装置及采用其进行测定的方法

摘要

本发明公开了一种气固表面反应装置及采用其进行测定的方法，目的在于解决目前样品在低真空或正压条件下处理后需要暴露大气后才能转移至其它超高真空环境进行后续分析的问题。常规方法是在特定的反应容器内完成对样品低压或高压反应处理，然后打开反应容器取出样品并转移到其它超高真空分析谱仪，该过程显然难以避免大气对被处理样品表面的二次污染问题。本发明的气固表面反应装置既能开展气固高压反应，又能获取超高真空；在高压充气及反应过程中，可实现温度、压力的在线采集记录，反应完毕后，又能使腔体处于超高真空状态，并能快速将样品真空转移至相连的其它分析设备。本发明彻底解决了大气对样品表面的二次污染，同时有效提高了工作效率。本发明设计合理，构思巧妙，对于气固表面反应研究具有重要意义。

主权项

一种气固表面反应装置，其特征在于，包括反应室、与反应室相连的样品支架、抽真空系统、充气装置、测定装置，所述反应室内设置有腔体，所述腔体包括高真空腔、设置在高真空腔上方且与高真空腔相连的高压腔体，所述高真空腔的水平截面积大于高压腔体的水平截面积，且高真空腔的顶端形成与高压腔体相连的环形凸台；所述样品支架包括与高真空腔密封连接的高压阀头、与高压阀头相连且能使高压阀头沿高真空腔相对移动的升降杆，所述高压阀头上还设置有与环形凸台相配合的密封件；所述抽真空系统、测定装置分别与腔体相连，所述充气装置与高压腔体相连。