[发明专利]一种PECVD系统真空腔室中辉光放电时屏蔽干扰的方法

摘要

本发明公开一种PECVD系统真空腔室中辉光放电时屏蔽干扰的方法，是在真空腔室内设有一矩形或圆形围护结构的屏蔽框，并具有辉光观察窗孔和良好的接地措施，可以有效地规避真空腔室内复杂结构和几何特征对辉光所带来的不良影响，将不规则的机械结构屏蔽在限定的辉光区域之外，即屏蔽了可能带来的尖端放电效应又收敛了辉光区域的扩散，增强辉光区域的稳定性和辉光颜色的均匀性，降低辉光功率的损耗，为沉积优质的层膜提供了保证。本发明适用于正方体形或圆柱体形的真空腔室，结构简单可靠，对整体设备布局和真空腔室内的结构不构成负面影响，辉光观察窗孔可以很方便地实时查视辉光状态，成本低，易于实施。

主权项

一种PECVD系统真空腔室中辉光放电时屏蔽干扰的方法，其特征是：在真空腔室内设有一屏蔽框，所述的屏蔽框为一矩形或圆形围护结构，屏蔽框的几何尺寸根据真空腔室内置的辉光电极极板尺寸设定，屏蔽框的内边缘距下电极的外边缘20mm以上，其上边缘略低于真空腔室内上电极极板高度；屏蔽框的底部翻边设有接地螺钉穿孔，用接地螺钉与真空腔室的底部拧紧固定，保持与真空腔室的接地连接，屏蔽框壁面的上部开有与真空腔室外置观察窗相对应的辉光观察窗孔，用于观察辉光过程和现象，为满足反应气体流动通畅，屏蔽框的四周或真空腔室排气侧开置排气孔道；所述的屏蔽框所有尖角和边缘部分均做倒角处理，所有内夹角均做圆弧处理以形成内夹角圆弧。