[发明专利]二维探测器阵列刻度方法及系统

摘要

本发明涉及二维探测器阵列测量领域，提供一种二维探测器阵列刻度方法及系统，以解决大射野照射下辐射场剂量分布不均匀、剂量仪存在能量响应误差，从而导致剂量仪测量不准确的问题，该系统包括辐射源、模体、探测器阵列、与探测器阵列连接的数据处理模块，其中辐射源、模体、探测器阵列从上至下依次设置。本发明提出的技术方案消除了能量响应误差以及大射野边缘不均匀带来的误差。

主权项

一种二维探测器阵列刻度系统，其特征在于包括辐射源、模体、探测器阵列、与探测器阵列连接的数据处理模块，所述辐射源、模体、探测器阵列从上至下依次设置，所述辐射源与探测器阵列之间的距离为100cm，所述模体的厚度为5cm，所述模体的长度大于探测器阵列的长度，所述探测器阵列由其水平中轴线和垂直中轴线划分为第一象限、第二象限、第三象限、第四象限共四个象限，所述四个象限的长度均为140mm、宽度均为140mm，所述数据处理模块包括用于存储探测器阵列当前象限的测量值的第一数据存储单元、用于存储探测器阵列在绕当前象限中心点水平旋转180°后的测量值的第二数据存储单元、用于求取第一数据存储单元数据和第二数据存储单元数据的平均值的取平均运算单元和用于对取平均运算单元的输出数据进行归一化处理的归一化单元，所述第一数据存储单元和第二数据存储单元分别与探测器阵列连接，所述取平均运算单元的输入端分别与第一数据存储单元和第二数据存储单元连接，所述归一化单元的输入端与取平均运算单元的输出端连接。