[发明专利]显影装置有效

专利信息
申请号: 201510086454.X 申请日: 2015-02-17
公开(公告)号: CN104849981B 公开(公告)日: 2019-11-22
发明(设计)人: 足立元纪;伊藤元就;渡边贵章;薄井佑介 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G03G15/08 分类号: G03G15/08;G03G21/18
代理公司: 11038 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 李今子<国际申请>=<国际公布>=<进入
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明公开一种显影装置。在显影装置中,以如下结构为特征:将限制部、开口、显影室的底部、收容室的底部的位置设为特定的位置关系的结构;将光除电单元设置于特定的位置的结构;将限制部件的构造设为特定的构造的结构。
搜索关键词: 显影 装置 以及 图像 形成
【主权项】:
1.一种显影装置,具备:/n显影剂承载体,在表面承载显影剂;/n限制部件,抵接到所述显影剂承载体,对承载在所述显影剂承载体的表面的显影剂的层厚进行限制;/n框体,形成显影室和收容室,所述显影室设置有所述显影剂承载体和所述限制部件,具有开口,所述收容室收容显影剂;以及/n搬送部件,设置于所述收容室内,通过所述开口将在所述收容室中收容的显影剂搬送到所述显影室,/n所述显影装置在像承载体上的显影剂被转印到被转印材料之后,将残留在所述像承载体上的显影剂回收到所述收容室,/n其特征在于,/n所述限制部件具有凸部以及突出部,所述凸部朝向所述显影剂承载体突出,所述突出部作为所述限制部件的一部分,在比所述凸部更靠近所述显影剂承载体的旋转方向上游侧的一侧,沿着所述显影剂承载体的表面延伸,/n所述凸部的一部分以通过所述显影剂承载体、所述凸部以及沿着所述显影剂承载体的表面延伸的突出部形成间隙的方式与所述显影剂承载体接触,/n所述凸部具有曲面,/n所述曲面与所述显影剂承载体接触,并且在与所述显影剂承载体的长度方向正交的方向的剖面具有所述显影剂承载体与比所述凸部更靠近所述旋转方向上游侧的所述突出部之间的最短距离以上的曲率半径,/n在所述剖面沿着所述突出部的所述显影剂承载体的表面的长度比所述最短距离长,并且从所述凸部的根部至最顶部的长度为200μm至400μm。/n
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