[发明专利]一种可调控复眼透镜阵列及其制作方法在审
| 申请号： | 201510087540.2 | 申请日： | 2015-02-16 |
| 公开（公告）号： | CN104597534A | 公开（公告）日： | 2015-05-06 |
| 发明（设计）人： | 樊兆华;黄灏;高秀敏 | 申请（专利权）人： | 杭州清渠科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B3/14 | 分类号： | G02B3/14 |
| 代理公司： | 无 | 代理人： | 无 |
| 地址： | 310018 浙江省杭州*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种可调控复眼透镜阵列制作方法，包括平面支撑基底、设置在所述支撑基底上呈阵列排列的透镜，其特征在于，所述的支撑基底和所述的透镜表面分别设置有基底微纳导电线圈和透镜微纳导电线圈，所述透镜微纳导电线圈在所述支撑基底所在平面上的投影与所述基底微纳导电线圈重合，所述基底微纳导电线圈和所述透镜微纳导电线圈均与电路控制器连接并受所述电路控制器控制。本发明的一种可调控复眼透镜阵列及其制作方法，采用在透镜表面以及支撑基底上均设置相对应的微纳导电线圈，并控制微纳导电线圈的电学参数，根据电磁感应效应控制透镜曲面面型及透镜曲面与支撑基底之间的距离，具有构造简单和控制灵活、精确的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 调控 复眼 透镜 阵列 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
一种可调控复眼透镜阵列，包括平面支撑基底、设置在所述支撑基底上呈阵列排列的透镜，其特征在于，所述的支撑基底和所述的透镜表面分别设置有基底微纳导电线圈和透镜微纳导电线圈，所述透镜微纳导电线圈在所述支撑基底所在平面上的投影与所述基底微纳导电线圈重合，所述基底微纳导电线圈和所述透镜微纳导电线圈均与电路控制器连接并受所述电路控制器控制。
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