[发明专利]版图数据的处理方法有效
| 申请号： | 201510088656.8 | 申请日： | 2015-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN105989209B | 公开（公告）日： | 2020-02-14 |
| 发明（设计）人： | 王刚;游桂美 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | G06F30/398 | 分类号： | G06F30/398 |
| 代理公司： | 11240 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 吴贵明;张永明 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种版图数据的处理方法及光掩膜数据。该处理方法包括以下步骤：将冗余图形数据并入到芯片数据的同时，对芯片数据中的图形进行光学邻近校正，以形成中间数据；将中间数据转换形成光掩膜数据。该处理方法通过将冗余图形数据并入到芯片数据的同时，对芯片数据中的图形进行光学邻近校正，从而减少版图数据的处理方法所花费的时间，而且由于将冗余图形数据并入到芯片数据的过程不会修改客户提供的芯片数据，进而保证了客户提供的芯片数据的安全。 | ||
| 搜索关键词： | 版图 数据 处理 方法 光掩膜 | ||
【主权项】：
1.一种版图数据的处理方法，其特征在于，所述处理方法包括以下步骤：/n将冗余图形数据并入到芯片数据的同时，采用OPC工具对所述芯片数据中的图形进行光学邻近校正，以形成中间数据；/n将所述中间数据转换形成光掩膜数据，/n将所述冗余图形数据并入到所述芯片数据的步骤包括：/n采用冗余图形插入工具将所述冗余图形数据和所述芯片数据合并，以使所述冗余图形数据中的图形插入到所述芯片数据中的图形的四周；/n采用冗余图形校正工具对所述合并后的图形进行图形校正，以验证所述冗余图形数据中的图形和所述芯片数据中的图形是否交叠。/n
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