[发明专利]有机半导体膜及其制造方法、薄膜晶体管、有源矩阵装置、电光学装置及电子设备有效

专利信息
申请号: 201510088686.9 申请日: 2015-02-26
公开(公告)号: CN104882539B 公开(公告)日: 2019-11-29
发明(设计)人: 守谷壮一 申请(专利权)人: 伊英克公司
主分类号: H01L51/00 分类号: H01L51/00;H01L51/05;H01L51/30;H01L51/40
代理公司: 11280 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 代理人: 郭广迅<国际申请>=<国际公布>=<进入
地址: 美国马*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明的有机半导体膜的制造方法的特征在于,具有以下工序:液状组合物施与工序,在基材上以规定的图案施与液状组合物,所述液状组合物是使有机半导体材料溶解或分散在第1溶剂中而成的;第2溶剂施与工序,在所述基材的被施与了所述液状组合物的区域施与第2溶剂,所述第2溶剂对所述有机半导体材料的溶解性比所述第1溶剂低;第2溶剂除去工序,将所述第2溶剂除去。
搜索关键词: 有机半导体 及其 制造 方法 薄膜晶体管 有源 矩阵 装置 光学 电子设备
【主权项】:
1.一种有机半导体膜的制造方法,其特征在于,具有以下工序:/n液状组合物施与工序,在基材上以规定的图案施与液状组合物,所述液状组合物是使有机半导体材料溶解或分散在第1溶剂中而成的,/n第2溶剂施与工序,在所述基材的被施与了所述液状组合物的区域施与第2溶剂,所述第2溶剂对所述有机半导体材料的溶解性比所述第1溶剂低,以及/n第2溶剂除去工序,将所述第2溶剂除去;/n其中,所述第2溶剂施与工序通过以下方式进行:在被施与了所述液状组合物的所述基材上施与所述第2溶剂的液滴。/n
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