[发明专利]一种青瓷及其制备方法

摘要

本发明公布了一种青瓷及其制备方法，属于瓷器制造领域。所述青瓷的制备方法包括高岭土处理、大理石和闪长石处理、胎土配制、釉料配制、坯体成型与素烧、坯体施釉、烧制；高岭土处理包括对高岭土干燥、劲风扬吹、分料、水流冲刷沉淀、分层取料，筛选出用于制作胎土和釉料的原料高岭土，再配合独特的烧成气氛及升温曲线，烧制成色泽比现有青瓷更为沉着、含蓄，釉色呈半透明状，坯体胎色呈灰白或深褐色的青瓷，该方法不受历史技艺羁绊，胎釉可以细腻，也可以粗糙，釉光较为温润，釉色并不追求纯正，而是形成差异性的地域特色。

主权项

一种青瓷的制备方法，包括高岭土处理、大理石和闪长石处理、胎土配制、釉料配制、坯体成型与素烧、坯体施釉、烧制；其特征在于，所述高岭土处理的方法如下：S1：将高岭土加热干燥后粉碎；S2：粉碎的高岭土用8‑10m/s的劲风扬吹形成原料堆，将高岭土原料堆分成A0‑1原料和B1‑2原料；所述的A0‑1原料为原料堆沿劲风扬吹方向0‑1m之间的高岭土，B1‑2原料为原料堆沿劲风扬吹方向1‑2m之间的高岭土；S3：将B1‑2原料用1.0‑1.5m/s的水流冲刷后沉淀形成沉淀层，从上到下取上层五分之一厚度的沉淀层作为Y1原料，取五分之一至十分之九厚度的沉淀层为T1原料；将A0‑1原料用1.0‑1.5m/s的水流冲刷后沉淀形成沉淀层，从上到下取上层五分之一厚度的沉淀层作为Y2原料，取五分之一至十分之九厚度的沉淀层为T2原料；S4：将T1原料、T2原料分别与水按1:3比例混合后球磨4‑5小时，过60目筛后压力去水，得到对应的T1胎土原料、T2胎土原料；将Y1原料、Y2原料分别与水按1:4比例混合后球磨20‑25小时，过120目筛，干燥后得到对应的Y1釉原料、Y2釉原料。