[发明专利]阶梯状组分渐变的AlN薄膜型冷阴极有效

专利信息
申请号: 201510094612.6 申请日: 2015-03-03
公开(公告)号: CN104658829B 公开(公告)日: 2017-05-03
发明(设计)人: 陈平;赵德刚;朱建军;刘宗顺;江德生;杨辉 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H01J1/304 分类号: H01J1/304
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司11021 代理人: 任岩
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种阶梯状组分渐变的AlN薄膜型冷阴极,包括一n型SiC衬底;一n型金属电极,其制作在n型SiC衬底下表面;一AlN薄膜型冷阴极,其外延生长在n型SiC衬底上;一金属阳极,其位于AlN薄膜型冷阴极的上面,且不与AlN薄膜型冷阴极接触;一高压源,其正极连接金属阳极;一电流计,其正极连接高压源,负极与n型金属电极连接。本发明是利用负电子亲和势的优势,将电子发射到真空中。
搜索关键词: 阶梯 组分 渐变 aln 薄膜 阴极
【主权项】:
一种阶梯状组分渐变的AlN薄膜型冷阴极,包括:一n型SiC衬底;一n型金属电极,其制作在n型SiC衬底下表面;一AlN薄膜型冷阴极,其外延生长在n型SiC衬底上;一金属阳极,其位于AlN薄膜型冷阴极的上面,且不与AlN薄膜型冷阴极接触;一高压源,其正极连接金属阳极;一电流计,其正极连接高压源,负极与n型金属电极连接。
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