[发明专利]具有非典型图案的光刻胶及其蚀刻基材与形成洞的方法有效

专利信息
申请号: 201510095706.5 申请日: 2015-03-04
公开(公告)号: CN105988292A 公开(公告)日: 2016-10-05
发明(设计)人: 黄信斌;徐政业;郑志浩 申请(专利权)人: 华亚科技股份有限公司
主分类号: G03F7/16 分类号: G03F7/16;G03F7/26;G03F1/80;H01L21/027
代理公司: 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 代理人: 江耀纯
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明公开了一种具有非典型图案的光刻胶以及其蚀刻基材的方法,所述光刻胶包含第一图案与第二图案。第一图案与第二图案的重叠部分为集合区域,而界定一种非典型图案。非典型图案中的任何一边都不是直线。
搜索关键词: 具有 非典型 图案 光刻 及其 蚀刻 基材 形成 方法
【主权项】:
一种具有非典型图案的光刻胶,其特征在于,包括:一光刻胶层;一第一图案,位于所述光刻胶中、沿着一第一方向延伸、并包含由一第一材料与一第二材料所界定出的曲线,其中任何一所述第一材料夹置于相邻的所述第二材料之间;一第二图案,位于所述光刻胶中、沿着不平行于所述第一方向的一第二方向延伸、并包含由一第三材料与一第四材料所界定出的曲线,其中任何一所述第三材料夹置于相邻的所述第四材料之间;以及一集合区域,位于所述第二材料以及所述第四材料中而界定出一非典型图案,其中所述非典型图案的任何一边都是曲线。
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