[发明专利]具有非典型图案的光刻胶及其蚀刻基材与形成洞的方法有效
申请号: | 201510095706.5 | 申请日: | 2015-03-04 |
公开(公告)号: | CN105988292A | 公开(公告)日: | 2016-10-05 |
发明(设计)人: | 黄信斌;徐政业;郑志浩 | 申请(专利权)人: | 华亚科技股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/16 | 分类号: | G03F7/16;G03F7/26;G03F1/80;H01L21/027 |
代理公司: | 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 | 代理人: | 江耀纯 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种具有非典型图案的光刻胶以及其蚀刻基材的方法,所述光刻胶包含第一图案与第二图案。第一图案与第二图案的重叠部分为集合区域,而界定一种非典型图案。非典型图案中的任何一边都不是直线。 | ||
搜索关键词: | 具有 非典型 图案 光刻 及其 蚀刻 基材 形成 方法 | ||
【主权项】:
一种具有非典型图案的光刻胶,其特征在于,包括:一光刻胶层;一第一图案,位于所述光刻胶中、沿着一第一方向延伸、并包含由一第一材料与一第二材料所界定出的曲线,其中任何一所述第一材料夹置于相邻的所述第二材料之间;一第二图案,位于所述光刻胶中、沿着不平行于所述第一方向的一第二方向延伸、并包含由一第三材料与一第四材料所界定出的曲线,其中任何一所述第三材料夹置于相邻的所述第四材料之间;以及一集合区域,位于所述第二材料以及所述第四材料中而界定出一非典型图案,其中所述非典型图案的任何一边都是曲线。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华亚科技股份有限公司,未经华亚科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510095706.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种变形框架整形装置
- 下一篇:一种线外汽车冲床台车PIN升降测试机构