[发明专利]曝光装置和曝光方法有效
| 申请号： | 201510097055.3 | 申请日： | 2015-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN104614951B | 公开（公告）日： | 2016-10-19 |
| 发明（设计）人： | 朱凤稚 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;陈源 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种曝光装置和曝光方法，该曝光装置包括：承载基台，其中承载基台用于承载待曝光基板，承载基台包括：若干个承载单元，待曝光基板被划分为与承载单元一一对应的若干个调节区域，承载单元中设置有温度调节模块，温度调节模块用于调节待曝光基板上对应的调节区域的温度，以使待曝光基板上对应的调节区域产生相应的热膨胀。本发明的技术方案通过调节待曝光基板上各调节区域的温度，以使得待曝光基板上各调节区域产生相应的热膨胀，从而对各调节区域的上表面的光强进行调节，从而能有效的保证待曝光基板的上表面的光强的均匀分布。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种曝光装置，其特征在于，包括：承载基台，所述承载基台用于承载待曝光基板，所述承载基台包括：若干个承载单元，所述待曝光基板被划分为与所述承载单元一一对应的若干个调节区域，所述承载单元中设置有温度调节模块，所述温度调节模块用于调节所述待曝光基板上对应的所述调节区域的温度，以使所述待曝光基板上对应的所述调节区域产生相应的热膨胀，以实现所述待曝光基板上各个所述调节区域中的光强均相同。
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