[发明专利]一种用于光刻机的光源掩模优化方法

摘要

一种用于光刻机的光源掩模优化方法，光源由对称的子光源组成，优化方法是梯度法。计算目标函数F对光源或掩模的梯度，包含计算目标函数F对空间像的梯度及计算空间像对光源或掩模的梯度两部分。采用使目标函数F最优的阈值进行掩模二值化。本发明适用于图形误差、光刻机工艺窗口、掩模误差增强因子等多种目标函数F，得到的对称光源保证了光刻机的远心性能，减少了掩模二值化对目标函数F的损失，有效提高了光刻成像质量。

主权项

一种用于光刻机的光源掩模优化方法，优化方法为梯度法，目标函数为F，其特征在于，该方法包括如下步骤：1)初始化光源和掩模：所述的光源由子光源组成，每个子光源都是对称的，设定单独优化掩模的总次数为NM，单独优化光源的总次数为NS，同时优化光源和掩模的总次数为NSM，设定初始掩模迭代次数为0，初始光源迭代次数为0，初始光源掩模同时迭代的次数为0；2)计算目标函数F对掩模的梯度，所述的计算目标函数F对掩模的梯度分为两个步骤：i)计算目标函数F对空间像强度矢量I的梯度；ii.)计算空间像强度矢量I对掩模的梯度；将掩模迭代次数加1作为新的掩模迭代次数对掩模进行迭代更新；3)如果掩模迭代次数小于NM，则进行步骤2)，否则转步骤4)；4)计算目标函数F对光源的梯度，所述的计算目标函数F对光源的梯度分为两个步骤：i)计算目标函数F对空间像强度矢量I的梯度；ii)计算空间像强度矢量I对光源的梯度；将光源迭代次数加1作为新的光源迭代次数对光源进行迭代更新；5)如果光源迭代次数小于NS，则进行步骤4)，否则转步骤6)；6)如果光源掩模同时迭代的次数小于NSM，则转入步骤2)到5)，并将光源掩模同时迭代的次数加1作为新的光源掩模同时迭代的次数，否则转步骤7)；7)采用使目标函数F最优的阈值对掩模进行二值化。