[发明专利]半导体装置有效
申请号: | 201510101487.7 | 申请日: | 2015-03-06 |
公开(公告)号: | CN105990516B | 公开(公告)日: | 2018-12-21 |
发明(设计)人: | 后藤善秋;赤田裕亮 | 申请(专利权)人: | 东芝存储器株式会社 |
主分类号: | H01L43/08 | 分类号: | H01L43/08 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 张世俊 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明的实施方式提供一种磁屏蔽效果经提高的半导体装置。实施方式的半导体装置(1)具备:磁屏蔽板(3),包括基底部(31)、倾斜部(32)、及弯曲部(33),所述基底部(31)设置在衬底(2),所述倾斜部(32)从基底部(31)的端部朝向外侧斜向延伸,所述弯曲部(33)设置在倾斜部(32)的前端;半导体元件(4),接着在磁屏蔽板(3)的基底部(31)上;密封树脂层(5),密封磁屏蔽板(3)及半导体元件(4);及磁屏蔽膜(6),覆盖密封树脂层(5)的表面,与弯曲部(33)的一部分接触。 | ||
搜索关键词: | 半导体 装置 | ||
【主权项】:
1.一种半导体装置,其特征在于具备:衬底;磁屏蔽板,包括基底部、倾斜部、及弯曲部,所述基底部设置在所述衬底,所述倾斜部从所述基底部的端部朝向外侧斜向延伸,所述弯曲部设置在所述倾斜部的前端;半导体元件,接着在所述磁屏蔽板的所述基底部上;密封树脂层,密封所述磁屏蔽板及所述半导体元件;以及磁屏蔽膜,覆盖所述密封树脂层的上表面及侧面,与所述弯曲部的一部分接触。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东芝存储器株式会社,未经东芝存储器株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510101487.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。