[发明专利]紫外线照射装置以及具有该紫外线照射装置的分析装置有效

专利信息
申请号: 201510102515.7 申请日: 2015-03-09
公开(公告)号: CN104952687B 公开(公告)日: 2018-02-27
发明(设计)人: 并河信宽;能登纪幸;中森明兴;井上武明 申请(专利权)人: 株式会社岛津制作所
主分类号: H01J61/02 分类号: H01J61/02;G01N21/33
代理公司: 上海市华诚律师事务所31210 代理人: 肖华
地址: 日本京都府京都*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种能够不对测定造成坏影响地避免发光管受到碱性氛围影响的紫外线照射装置以及具有该紫外线照射装置的分析装置。通过在由石英材料形成的发光管(71)的外表面形成第1保护膜(731),避免发光管(71)受到碱性氛围影响。由于可以通过第1保护膜(731)来阻止对于碱性氛围的石英材料的化学反应,防止石英材料洗脱,因此可以避免发光管(71)受到碱性氛围影响。又,由于使第1保护膜(731)成膜于发光管(71)的外表面,因此可以防止在发光管(71)的外表面和第1保护膜(731)之间产生间隙。因此,不会存在进入到发光管的外表面和第1保护膜之间的间隙的水样混入下一次分析时的水样的情况,能够防止这样的水样的混入对测定造成坏影响。
搜索关键词: 紫外线 照射 装置 以及 具有 分析
【主权项】:
一种紫外线照射装置,其是在碱性氛围中被使用的紫外线照射装置,其特征在于,包括:发光管,所述发光管由石英材料形成的,从内部发出紫外光;第1保护膜,所述第1保护膜由耐紫外线性以及耐碱性高的材料形成,其被成膜于所述发光管的外表面,避免所述发光管受到碱性氛围的影响;以及第2保护膜,所述第2保护膜形成于所述第1保护膜的外表面,由与所述第1保护膜不同的疏水性高的材料构成,所述第1保护膜的耐紫外线性比所述第2保护膜高,所述第2保护膜的耐碱性比所述第1保护膜高。
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