[发明专利]一种以耐高温聚合物薄膜为基底的菲涅尔透镜制作方法在审
| 申请号： | 201510108830.0 | 申请日： | 2015-03-12 |
| 公开（公告）号： | CN104650376A | 公开（公告）日： | 2015-05-27 |
| 发明（设计）人： | 王松;杨伟;刘习奎;吴时彬;任戈 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | C08J7/04 | 分类号： | C08J7/04;C08J7/12;G02B3/08;C08L79/08 |
| 代理公司： | 无 | 代理人： | 无 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种以耐高温聚合物薄膜为基底的菲涅尔透镜制作方法，结合光学薄膜制备工艺中所使用的成膜基板表面刻蚀有负向互补菲涅尔结构，在制备高玻璃化转变温度(Tg)光学级薄膜的同时，将菲涅尔图案结构转印到薄膜表面，实现一种以耐高温高分子薄膜为基底的菲涅尔透镜制作方法，大大简化了该类薄膜表面菲涅尔结构加工工艺，节省大量人力物力，降低制作成本；轮廓精度高；特别适合于一类耐高温的高Tg聚合物光学薄膜材料，是一种温和的菲涅尔结构成型方法。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 耐高温 聚合物 薄膜 基底 菲涅尔 透镜 制作方法 | ||
【主权项】：
一种以耐高温聚合物薄膜为基底的菲涅尔透镜制作方法，其特征在于：结合光学薄膜制备工艺中所使用的成膜基板表面刻蚀有负向互补菲涅尔结构，在制备高Tg光学级薄膜的同时，将菲涅尔图案结构转印到薄膜表面，实现一种以耐高温高分子薄膜为基底的菲涅尔透镜制作方法。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院光电技术研究所;，未经中国科学院光电技术研究所;许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201510108830.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
