[发明专利]真空锁系统及基片传送方法

摘要

本发明公开了一种传送基片的真空锁系统，包含腔室主体、第一和第二传片机构。腔室主体包括第一室和与第一室水平设置的第二室。第一室用于对置于基座上的基片进行等离子体处理。第二室具有侧壁上可密封地形成分别与第一室、大气气氛环境和真空处理环境相连通的第一、第二和第三开口。当在所述第一室和第二室之间进行基片传送时，第一传片机构用于在基座和第一室内高于基座顶面的一传送位置之间传送基片，第二传片机构用于通过第一开口在第二室与传送位置之间传送基片，第一传片机构和第二传片机构在所述传送位置处进行基片交接。本发明能够提高系统传片效率，减轻真空处理环境中传送机器人的运动负担。

主权项

1.一种传送基片的真空锁系统，其特征在于，包含：腔室主体，其包括：第一室，其中设有基座，所述第一室用于对置于该基座上的基片进行真空处理；与所述第一室水平相邻设置的第二室，具有以可密封的方式形成于其侧壁上的第一、第二和第三开口，所述第一、第二和第三开口分别用于与所述第一室、大气气氛环境和真空处理环境相连通以进行基片传送；第一传片机构，用于当在所述第一室和第二室之间进行基片传送时，在所述基座和一传送位置之间传送基片，所述传送位置为位于所述第一室内且高于所述基座顶面的位置；以及第二传片机构，用于当在所述第一室和第二室之间进行基片传送时，通过所述第一开口在所述第二室与所述传送位置之间传送基片；所述第一传片机构和第二传片机构在所述传送位置处进行基片交接。