[发明专利]一种降低LED二极管电压的外延方法有效
申请号: | 201510115045.8 | 申请日: | 2015-03-16 |
公开(公告)号: | CN104701428B | 公开(公告)日: | 2017-07-28 |
发明(设计)人: | 马后永;李起鸣;张宇;徐慧文 | 申请(专利权)人: | 映瑞光电科技(上海)有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00;H01L33/02;H01L33/06 |
代理公司: | 上海光华专利事务所31219 | 代理人: | 余明伟 |
地址: | 201306 上海市浦东新区*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供一种降低LED二极管电压的外延方法,至少包括以下步骤S1提供一衬底,在所述衬底上依次生长缓冲层、非掺杂GaN层及N型GaN层;S2在所述N型GaN层上生长浅量子阱周期性结构,其中,所述浅量子阱周期性结构为InGaN/GaN周期性结构,周期为3~30;每一InGaN层中,In组分范围是1~10%,且自下而上位于不同周期的多个InGaN层中,In组分不同;S3在所述浅量子阱周期性结构上生长多量子阱发光层;S4在所述多量子阱发光层表面依次生长P型电子阻挡层、P型GaN层及P型接触层。本发明可以降低LED二极管的工作电压,从而降低LED二极管的发热,提升LED芯片的光效及寿命。 | ||
搜索关键词: | 一种 降低 led 二极管 电压 外延 方法 | ||
【主权项】:
一种降低LED二极管电压的外延方法,其特征在于,至少包括以下步骤:S1:提供一衬底,在所述衬底上依次生长缓冲层、非掺杂GaN层及N型GaN层;S2:在所述N型GaN层上生长浅量子阱周期性结构,其中,所述浅量子阱周期性结构为InGaN/GaN周期性结构,周期为3~30;每一InGaN层中,In组分范围是1~10%,且自下而上位于不同周期的多个InGaN层中,In组分不同,以在所述InGaN/GaN周期性结构中产生在表面的直径小于150nm,密度范围是5.0E8~1.0E10cm‑2的六角晶体缺陷;S3:在所述浅量子阱周期性结构上生长多量子阱发光层;S4:在所述多量子阱发光层表面依次生长P型电子阻挡层、P型GaN层及P型接触层。
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