[发明专利]一种降低LED二极管电压的外延方法有效

专利信息
申请号: 201510115045.8 申请日: 2015-03-16
公开(公告)号: CN104701428B 公开(公告)日: 2017-07-28
发明(设计)人: 马后永;李起鸣;张宇;徐慧文 申请(专利权)人: 映瑞光电科技(上海)有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L33/02;H01L33/06
代理公司: 上海光华专利事务所31219 代理人: 余明伟
地址: 201306 上海市浦东新区*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种降低LED二极管电压的外延方法,至少包括以下步骤S1提供一衬底,在所述衬底上依次生长缓冲层、非掺杂GaN层及N型GaN层;S2在所述N型GaN层上生长浅量子阱周期性结构,其中,所述浅量子阱周期性结构为InGaN/GaN周期性结构,周期为3~30;每一InGaN层中,In组分范围是1~10%,且自下而上位于不同周期的多个InGaN层中,In组分不同;S3在所述浅量子阱周期性结构上生长多量子阱发光层;S4在所述多量子阱发光层表面依次生长P型电子阻挡层、P型GaN层及P型接触层。本发明可以降低LED二极管的工作电压,从而降低LED二极管的发热,提升LED芯片的光效及寿命。
搜索关键词: 一种 降低 led 二极管 电压 外延 方法
【主权项】:
一种降低LED二极管电压的外延方法,其特征在于,至少包括以下步骤:S1:提供一衬底,在所述衬底上依次生长缓冲层、非掺杂GaN层及N型GaN层;S2:在所述N型GaN层上生长浅量子阱周期性结构,其中,所述浅量子阱周期性结构为InGaN/GaN周期性结构,周期为3~30;每一InGaN层中,In组分范围是1~10%,且自下而上位于不同周期的多个InGaN层中,In组分不同,以在所述InGaN/GaN周期性结构中产生在表面的直径小于150nm,密度范围是5.0E8~1.0E10cm‑2的六角晶体缺陷;S3:在所述浅量子阱周期性结构上生长多量子阱发光层;S4:在所述多量子阱发光层表面依次生长P型电子阻挡层、P型GaN层及P型接触层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于映瑞光电科技(上海)有限公司,未经映瑞光电科技(上海)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510115045.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top