[发明专利]一种光纤光栅的制备方法有效

专利信息
申请号: 201510115832.2 申请日: 2015-03-17
公开(公告)号: CN104678486B 公开(公告)日: 2018-09-04
发明(设计)人: 余海湖;郭会勇;李小甫;程乘;周次明;姜德生 申请(专利权)人: 武汉烽理光电技术有限公司
主分类号: G02B6/02 分类号: G02B6/02
代理公司: 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 代理人: 胡建平
地址: 430079 湖北省*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明涉及一种光纤光栅制备方法,将石英玻璃基质光纤预制棒装夹于光纤拉丝塔上进行熔融拉丝,在不断下行的裸光纤上,先进行光栅刻写,然后涂覆涂料并用紫外光固化,最终收于收线盘,其特征在于所述的光栅刻写采用相位掩模法配置193nm的准分子激光对裸光纤进行单脉冲曝光写入光栅。本发明动态在线连续制备光纤光栅阵列,工艺简便合理,制作效率高;采用相位掩模法和193nm准分子激光刻写的光栅中心波长稳定、谱形好、光栅的反射率一致性高;可以制备出高质量光栅阵列;本发明解决了拉丝塔上在线制备光栅的稳定性差、可靠性差、光栅质量差、效率低的问题。制备的光纤光栅阵列可用于长距离检测和信号传输。
搜索关键词: 一种 光纤 光栅 制备 方法
【主权项】:
1.一种光纤光栅的制备方法,将石英玻璃基质光纤预制棒装夹于光纤拉丝塔上进行熔融拉丝,在不断下行的裸光纤上,先进行光栅刻写,然后涂覆涂料并用紫外光固化,最终收于收线盘,其特征在于所述的光栅刻写采用相位掩模法配置193nm的准分子激光对裸光纤进行单脉冲曝光写入光栅;所述的相位掩模法是将相位掩模板紧贴裸光纤,由193nm准分子激光器输出单脉冲激光束,通过光阑整形,再经过透镜聚焦,照射到相位掩模板上,在下移的裸光纤上写入光栅;在光纤向下移动过程中,一个激光脉冲在光纤内写一个光栅,连续对光纤进行曝光;所述的拉丝加工速度为2~30m/min。
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