[发明专利]一种彩膜基板的制作方法、彩膜基板以及液晶显示面板有效

专利信息
申请号: 201510117726.8 申请日: 2015-03-18
公开(公告)号: CN104793391B 公开(公告)日: 2019-04-16
发明(设计)人: 谢畅 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司;武汉华星光电技术有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335;G02F1/1333
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种彩膜基板的制作方法包括:提供一基板,基板包括彩膜区域、W子像素区域、以及黑色矩阵区域;在基板上涂覆一第一OC层;对第一OC层进行图形化处理,保留W子像素区域的第一OC层,其他区域的第一OC层均去除;在基板上沉积一黑色矩阵层;对黑色矩阵层进行图形化处理,保留黑色矩阵区域的黑色矩阵层,其他区域的黑色矩阵层均去除;在基板上的彩膜区域涂布RGB色阻层,以形成RGB彩膜,RGB彩膜的厚度与W子像素区域的第一OC层的厚度相同;在基板上涂覆第二OC层;以及在第二OC层上沉积透明金属层,以形成透明电极。本发明能避免W子像素区域出现凹陷,从而有效避免RGBW像素出现的漏光,有效改善按压色差的问题。
搜索关键词: 一种 彩膜基板 制作方法 以及 液晶显示 面板
【主权项】:
1.一种彩膜基板的制作方法,其特征在于,所述彩膜基板的制作方法包括:提供一基板,所述基板包括彩膜区域、W子像素区域、以及黑色矩阵区域;在所述基板的整个表面上均涂覆一第一OC层;对所述第一OC层进行曝光、显影、以及刻蚀工艺操作,保留所述W子像素区域的所述第一OC层,其他区域的所述第一OC层均去除;在所述基板上沉积一黑色矩阵层;沉积的所述黑色矩阵层的厚度与所述W子像素区域的所述第一OC层的厚度相同;对所述黑色矩阵层进行曝光、显影、以及刻蚀工艺操作,保留所述黑色矩阵区域的所述黑色矩阵层,其他区域的所述黑色矩阵层均去除;在所述基板上的所述彩膜区域涂布RGB色阻层,以形成RGB彩膜,其中,所述RGB彩膜的厚度、所述黑色矩阵区域的所述黑色矩阵层的厚度、以及所述W子像素区域的所述第一OC层的厚度均相同;在所述基板上整体涂覆平坦的第二OC层;以及在所述第二OC层上沉积透明金属层,以形成透明电极。
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