[发明专利]一种用于消除散射辐射影响的数字滤线栅成像方法有效
| 申请号： | 201510119411.7 | 申请日： | 2015-03-18 |
| 公开（公告）号： | CN106033598B | 公开（公告）日： | 2020-07-31 |
| 发明（设计）人： | 李运祥;曹红光;常彤;崔志立;康小维 | 申请（专利权）人： | 北京纳米维景科技有限公司 |
| 主分类号： | G06T5/00 | 分类号： | G06T5/00;G06T7/00 |
| 代理公司： | 北京汲智翼成知识产权代理事务所(普通合伙) 11381 | 代理人： | 陈曦;符浩 |
| 地址： | 100094 北京市海淀区永*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于消除散射辐射影响的数字滤线栅成像方法，包括如下步骤：S1，利用感兴趣区域的数据，计算出自适应的对数曲线，对图像亮度进行校正；S2，对进行亮度校正的图像做反白处理；S3，对反白处理后的图像进行虚拟滤线栅处理，得到输出图像。本发明可以改善对于厚体位图像质量不佳的问题，同时有效解决在实际使用过程中效果不稳定的问题，大大提高了稳定性以及图像质量，在降低病人辐射剂量水平的情况下，保证诊断质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 消除 散射 辐射 影响 数字 滤线栅 成像 方法 | ||
【主权项】：
一种用于消除散射辐射影响的数字滤线栅成像方法，其特征在于包括如下步骤：S1，利用感兴趣区域的数据，计算出自适应的对数曲线，对图像亮度进行校正；S2，对进行亮度校正的图像做反白处理；S3，对反白处理后的图像进行虚拟滤线栅处理，得到输出图像。
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