[发明专利]感放射线性树脂组合物、显示元件用间隔件及层间绝缘膜的形成方法、以及显示元件有效

专利信息
申请号: 201510119546.3 申请日: 2015-03-18
公开(公告)号: CN104950575B 公开(公告)日: 2020-01-31
发明(设计)人: 西信弘;西川耕二;中川刚志 申请(专利权)人: JSR株式会社
主分类号: G03F7/027 分类号: G03F7/027;G03F7/004;G02F1/1339;G03F7/00
代理公司: 11205 北京同立钧成知识产权代理有限公司 代理人: 马雯雯;臧建明
地址: 日本东京港*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种感放射线性树脂组合物、显示元件用间隔件及层间绝缘膜的形成方法、以及显示元件,所述感放射线性树脂组合物可通过升华物的产生少的工艺而在低的烧成温度下形成显示元件的间隔件及层间绝缘膜。本发明的感放射线性树脂组合物含有[A]聚合物、[B]聚合性不饱和化合物及[C]感放射线性聚合引发剂,其特征在于:所述[A]聚合物为含有(A1)具有羧基的结构单元及(A2)下述式(1)所表示的结构单元的聚合物,而且所述[C]感放射线性聚合引发剂含有具有羟基的感放射线性聚合引发剂。
搜索关键词: 放射 线性 树脂 组合 显示 元件 间隔 绝缘 形成 方法 以及
【主权项】:
1.一种感放射线性树脂组合物,含有:/n[A]聚合物、/n[B]聚合性不饱和化合物、及/n[C]感放射线性聚合引发剂,并且/n所述感放射线性树脂组合物的特征在于:/n所述[A]聚合物为含有(A1)(a1)来源于选自由不饱和羧酸及不饱和羧酸酐所组成的组群中的至少一种的具有羧基的结构单元1摩尔%~20摩尔%、(A2)(a2)来源于下述式(a2)所表示的化合物的下述式(1)所表示的结构单元1摩尔%~95摩尔%及(A3)(a3)来源于选自由具有氧杂环丙基的聚合性不饱和化合物及具有氧杂环丁基的聚合性不饱和化合物所组成的组群中的至少一种的具有交联性基的聚合性不饱和化合物的结构单元1摩尔%~40摩尔%的聚合物,而且/n所述[C]感放射线性聚合引发剂为下述式(C1)~式(C4)所表示的化合物,/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于JSR株式会社,未经JSR株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510119546.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top