[发明专利]一种基于PCDL型聚氨酯丙烯酸酯制备的光刻胶组合物有效
申请号: | 201510129329.2 | 申请日: | 2015-03-23 |
公开(公告)号: | CN104698754B | 公开(公告)日: | 2018-11-13 |
发明(设计)人: | 刘敬成;刘秋华;郑祥飞;刘仁;李虎;刘晓亚 | 申请(专利权)人: | 江南大学 |
主分类号: | G03F7/027 | 分类号: | G03F7/027;G03F7/004;C08G18/67;C08G18/66;C08G18/44;C08G18/34 |
代理公司: | 无锡华源专利商标事务所(普通合伙) 32228 | 代理人: | 冯智文 |
地址: | 214122 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于PCDL型聚氨酯丙烯酸酯制备的光刻胶组合物,所述组合物的原料及其各原料的质量百分含量为:聚氨酯丙烯酸酯45‑60%,活性稀释剂10‑15%,颜料4‑6%,光引发剂3‑5%,溶剂20‑37%;在避光条件下,聚氨酯丙烯酸酯与光引发剂、溶剂、活性稀释剂以及颜料按比例混合,室温下磁力搅拌使其充分溶解,即得光致抗蚀剂。本发明组合物中PCDL型聚氨酯丙烯酸酯的玻璃化温度、硬度、较高,酸值可调,分子量较低,粘度小,以该低聚物配制的光致抗蚀剂膜稀碱液可显影,且显影时间短,图像分辨率较高。 | ||
搜索关键词: | 聚氨酯丙烯酸酯 光刻胶组合物 活性稀释剂 光引发剂 溶剂 显影 颜料 制备 光致抗蚀剂膜 按比例混合 光致抗蚀剂 图像分辨率 避光条件 磁力搅拌 玻璃化 低聚物 稀碱液 可调 配制 溶解 | ||
【主权项】:
1.一种基于PCDL型聚氨酯丙烯酸酯制备的光刻胶组合物,其特征在于所述组合物的原料及其各原料的质量百分含量为:
所述聚氨酯丙烯酸酯为自己合成,其酸值为25‑70mgKOH/g,重均分子量为7000‑9500,双键当量为700‑1200g/mol;所述聚氨酯丙烯酸酯的制备方法为:(1)在装有温度计、回流冷凝管、搅拌器的250mL四口圆底烧瓶中加入二异氰酸酯单体和催化剂,向其中滴入聚碳酸酯二元醇,在40‑50℃条件下保温反应1.5‑2h;所述二异氰酸酯单体为甲苯二异氰酸酯、二苯基甲烷二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯中的一种;所述催化剂为有机锡类催化剂、叔胺类催化剂中的至少一种,用量为总投料量的0.01wt%‑0.05wt%;所述二异氰酸酯单体与聚碳酸酯二元醇的摩尔比为2:1‑5:1;所述聚碳酸酯二元醇的分子量500‑1000;(2)随后加入2,2‑二羟甲基丁酸溶液,在70‑80℃条件下保温反应4‑5h;所述2,2‑二羟甲基丁酸与二异氰酸酯单体的摩尔比为1.5:1‑3:1;所述2,2‑二羟甲基丁酸溶液所用溶剂为N,N‑二甲基甲酰胺、N‑甲基吡咯烷酮、丙酮中的一种或多种,其固含为10wt%‑30wt%;(3)最后加入阻聚剂,再加入含羟基的丙烯酸酯单体进行封端,在70‑80℃条件下保温反应,直至用红外光谱检测不到NCO在2265cm‑1处的吸收峰时,停止反应,制得基于PCDL的聚氨酯丙烯酸酯;所述阻聚剂为对羟基苯甲醚、对苯二酚、间苯二酚、2,6‑二叔丁基对甲酚中的一种或多种,其用量为总投料量的0.1wt%‑0.5wt%;所述含羟基的丙烯酸酯单体为丙烯酸羟乙酯、甲基丙烯酸羟乙酯、丙烯酸羟丙酯、甲基丙烯酸羟丙酯、季戊四醇三丙烯酸酯中的一种;所述含羟基的丙烯酸酯单体与二异氰酸酯单体的摩尔比为1:1‑2.5:1;在避光条件下,聚氨酯丙烯酸酯与光引发剂、溶剂、活性稀释剂以及颜料按比例混合,室温下磁力搅拌使其充分溶解,即得光致抗蚀剂;将制成的光致抗蚀剂使用旋涂机涂覆在铜片上,75‑85℃条件下预烘30‑40分钟;在50‑300mJ/cm2曝光,然后在质量分数为0.5%的Na2CO3溶液中显影,显影时间40‑60s。
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