[发明专利]成像控制方法和装置、成像设备有效

专利信息
申请号: 201510130606.1 申请日: 2015-03-24
公开(公告)号: CN106161910B 公开(公告)日: 2019-12-27
发明(设计)人: 杜琳 申请(专利权)人: 北京智谷睿拓技术服务有限公司
主分类号: H04N5/232 分类号: H04N5/232
代理公司: 11413 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人: 马敬;项京
地址: 100085 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本申请公开了一种成像控制方法和装置、成像设备,其中,成像控制方法包括:至少根据待摄对象的深度信息,确定图像传感器的至少二个成像子区各自对应的目标合焦深度位置;控制所述图像传感器变形,以使变形后的所述至少二个成像子区的参考点的深度位置分别向相应的所述目标合焦深度位置接近或重合;基于变形后的所述图像传感器获取所述待摄对象的图像。采用本申请提供的技术方案可提高成像质量。
搜索关键词: 成像 控制 方法 装置 设备
【主权项】:
1.一种成像控制方法,其特征在于,包括:/n至少根据待摄对象的深度信息,确定图像传感器的至少二个成像子区各自对应的目标合焦深度位置;/n控制所述图像传感器变形,以使变形后的所述至少二个成像子区的参考点的深度位置分别向相应的所述目标合焦深度位置接近或重合;/n基于变形后的所述图像传感器获取所述待摄对象的图像;/n所述图像传感器包括柔性图像传感器;和/或,/n所述图像传感器包括阵列分布的多个成像子区,至少二个成像子区之间通过可变形连接部件连接;/n所述控制所述图像传感器变形,包括:/n确定所述图像传感器的变形约束信息;/n根据所述变形约束信息确定所述至少二个成像子区沿深度方向的最大形变深度范围;/n根据所述最大形变深度范围和所述目标合焦深度位置,控制所述至少二个成像子区的变形。/n
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