[发明专利]光学非球面元件的变形加工方法有效
申请号: | 201510131415.7 | 申请日: | 2015-03-25 |
公开(公告)号: | CN104759964B | 公开(公告)日: | 2017-04-12 |
发明(设计)人: | 代雷;陈华男;闫丰;谷勇强;隋永新;杨怀江 | 申请(专利权)人: | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
主分类号: | B24B13/00 | 分类号: | B24B13/00;B24B13/005;B24B49/00 |
代理公司: | 长春菁华专利商标代理事务所(普通合伙)22210 | 代理人: | 王丹阳 |
地址: | 130033 吉*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | 光学非球面元件的变形加工方法,涉及光学加工领域,解决了现有光学非球面元件加工方法存在的加工时间长、成本高的问题。本发明针对所要加工的光学非球面元件设计一种特制的真空工装,使用真空装卡的方式,在真空装卡状态下光学非球面元件表面发生一定的形变,在此状态下采用球面光学元件的加工方式进行加工,具体为铣磨成型、精磨和抛光,加工完毕后取下真空工装,在非装卡状态下光学非球面元件的面形误差满足工艺设计要求。通过变形装卡实现光学非球面元件表面的加工,使用球面光学元件加工方式,针对局部光圈进行修正,有效地提高了光学非球面元件表面的加工效率,极大地缩短了加工时间,降低了加工成本,提高了加工精度。 | ||
搜索关键词: | 光学 球面 元件 变形 加工 方法 | ||
【主权项】:
光学非球面元件的变形加工方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤一、光学非球面元件(1)的表面母线方程,如式(1)所示:Z(s)=Cs21+1-(1+k)C2s2+A4s4+A6s6+...+A2ns2n---(1)]]>式(1)中,Z(s)为垂直光轴的光学非球面元件(1)的表面轮廓,s为光轴之间的径向距离,C为光学非球面元件(1)的表面曲率,k为圆锥常数,A4…A2n为高次光学非球面系数,n为整数且n≥2;步骤二、根据式(1)以及光学非球面元件(1)厚度、口径、材料的物理性能设计真空工装(2),真空工装(2)的表面母线方程,如式(2)所示:Z(s)base=B1s+B2s2+B3s3+…+Bnsn (2)式(2)中,B1…Bn为高次光学非球面系数,s为光轴之间的径向距离,n为整数且n≥1;真空工装(2)中心设有真空导气孔(5),加工完成后检测真空工装(2)表面,保证真空工装(2)的加工误差与设计误差满足工艺设计要求;步骤三、将光学非球面元件(1)放置在真空工装(2)上,对真空工装(2)的真空导气孔(5)抽真空,利用气压差将光学非球面元件(1)固定在真空工装(2)上,此时光学非球面元件(1)表面由于气压差作用产生形变,记录并保持此时的气压差,同时计算此时的光学非球面元件(1)表面变形量,得到光学非球面元件(1)的初始面形误差;步骤四、根据光学非球面元件(1)表面的半径优化铣磨工艺参数,在真空装卡状态下,采用球面范成法利用碗型固着磨料(7)的金刚石砂轮(6)对光学非球面元件(1)表面进行铣磨加工,加工完毕后在真空装卡状态下对光学非球面元件(1)表面进行检测,在非装卡状态下对光学非球面元件(1)表面进行复检,确保铣磨加工后的光学非球面元件(1)的面形误差满足工艺设计要求;步骤五、根据步骤三得到的光学非球面元件(1)表面变形量和步骤四的铣磨加工结果优化抛光工艺参数,在真空装卡状态下,采用局部光圈修正方式利用抛光模(8)对光学非球面元件(1)表面进行抛光加工,同时利用样板法检测局部光圈,当局部光圈满足设计要求时,在非装卡状态下对光学非球面元件(1)全口径进行检测,确保抛光加工后的光学非球面元件(1)的面形误差满足工艺设计要求。
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