[发明专利]积层制造方法及光敏树脂的光固化方法有效
| 申请号： | 201510132986.2 | 申请日： | 2015-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN106154742B | 公开（公告）日： | 2020-03-20 |
| 发明（设计）人： | 郑正元;龙琳儿;苏威年;黄炳照 | 申请（专利权）人： | 郑正元;苏威年;黄炳照 |
| 主分类号： | G03F1/54 | 分类号： | G03F1/54;G02F1/1333 |
| 代理公司： | 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 | 代理人： | 许志勇 |
| 地址： | 中国台湾*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光固化一光敏树脂的方法。该方法包括下列步骤：于一XY平面基板的表面形成一光罩模块，以对于一矢量文件产生一次像素图形，其中该光罩模块包括一次像素屏幕与一像素矩阵，该像素矩阵包括多数方型像素，每个方型像素包括三个滤色次像素；对该次像素图形建立一外轮廓区及一内轮廓区；对该外轮廓区及该内轮廓区填色；将该外轮廓区及该内轮廓区依序贴附于该次像素屏幕以成像；以及以一光源透过该次像素屏幕照射该光敏树脂。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 方法 光敏 树脂 光固化 | ||
【主权项】：
一种光固化一光敏树脂的方法，包括下列步骤：于一XY平面基板的表面形成一光罩模块，以对于一矢量文件产生一次像素图形，其中该光罩模块包括一次像素屏幕与一像素矩阵，该像素矩阵包括多数方型像素，每个方型像素包括三个滤色次像素；对该次像素图形建立一外轮廓区及一内轮廓区；对该外轮廓区及该内轮廓区填色；将该外轮廓区及该内轮廓区依序贴附于该次像素屏幕以成像；以及以一光源透过该次像素屏幕照射该光敏树脂。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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