[发明专利]一种铜钯银合金高精超细键合引线制造方法在审
申请号: | 201510133949.3 | 申请日: | 2015-03-26 |
公开(公告)号: | CN104752235A | 公开(公告)日: | 2015-07-01 |
发明(设计)人: | 陈晓东 | 申请(专利权)人: | 鹰潭瑞兴铜业有限公司 |
主分类号: | H01L21/48 | 分类号: | H01L21/48;H01L23/49;C22C9/00;C22C1/02;C22F1/08 |
代理公司: | 鹰潭市博惠专利事务所 36112 | 代理人: | 徐红芳 |
地址: | 335000 江西*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | 本发明提供一种铜钯银合金高精超细键合引线制造方法,该键合引线是由下列重量百分比的原料组成:银4%,钯0.03%,混合型稀土0.0002%,其余为铜,其制造方法包括:制备铜合金铸锭,连铸成铸态单晶母线,粗拔,热处理,表面镀银,精拔,热处理,表面清洗,本发明可以有效提升键合引线的抗氧化性能,有利于进一步缩小键合引线的线径,缩短焊接间距,更加适用于高密度,多引脚集成电路封装。 | ||
搜索关键词: | 一种 铜钯银 合金 高精超细键合 引线 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种铜钯银合金高精超细键合引线制造方法,该键合引线是由下列重量百分比的原料组成:银4%,钯0.03%,混合型稀土0.0002%,其余为铜,之和等于100%,其制造方法如下:(1)制备铜合金铸锭:提取纯度大于99.9995%的高纯铜,然后加入钯、稀土,含量按照重量百分比分别为Pd0.03%—0.08%、Re0.0002%—0.0008%、其余为铜,钯的纯度大于99.999%,Re为混合型稀土,这些金属经机械混合后放入高纯石墨坩埚中,在惰性气体保护条件下使用感应电炉熔化,制备成铜合金铸锭;(2)连铸成铸态单晶母线:将制备好的铜合金铸锭加入有氮气保护的水平连铸金属单晶连铸室,应用中频感应加热至(1150—1220)℃,待完全熔化、精炼和除气后,将熔液注入连铸室中间的储液池保温,在维持(2—5)L/min净化氮气流量的连铸室中,完成对铜合金熔液的水平单晶连铸,得到Φ3mm、纵向和横向晶粒数均为1个的铜钯合金铸态单晶母线;(3)粗拔:采用常规拉丝设备和工艺、工装、将Φ3mm的铜钯合金铸态单晶母线经多道次过模拉拔工序,拉拔成Φ0.20mm左右的铜钯合金单晶丝;(4)热处理:将拉拔成Φ0.20mm左右的铜钯合金单晶丝置于退火炉中,在(420—460)℃温度下保温25min,保温期间通以氮气保护气体,然后随炉冷却;(5)表面镀银:应用常规电镀设备和工艺,对退火后的Φ0.20mm左右的铜钯合金单晶丝电镀纯银防氧化保护层,电镀用银的纯度要求大于99.99%;(6)精拔:将表面已镀银的镀银铜钯合金单晶键合引线经多道次过模拉拔工序,拉拔成不同的规格的(0.013mm—0.028mm)成品键合引线;(7)热处理:将镀银铜钯合金单晶键合引线置于退火炉中,在(400—420)℃温度下保温25min,保温期间通以氮气保护气体,然后随炉冷却;(8)表面清洗:将镀银铜钯合金单晶键合引线先用酸液清洗,然后经超声波清洗,再由高纯水清洗、烘干。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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