[发明专利]板式PECVD镀膜设备上下料台传送系统的防压框装置有效
申请号: | 201510136312.X | 申请日: | 2015-03-26 |
公开(公告)号: | CN104775104B | 公开(公告)日: | 2017-07-07 |
发明(设计)人: | 温云佳;高西超;李明亮;周迎亮;石鹏光 | 申请(专利权)人: | 晶澳太阳能有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 广州知友专利商标代理有限公司44104 | 代理人: | 李海波 |
地址: | 055550 河北*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | 本发明公开了一种板式PECVD镀膜设备上下料台传送系统的防压框装置,包括电源、行程开关、两位五通电磁阀、气源、双作用气缸和挡板;行程开关安装在升降台的底面上,行程开关的触头能够在升降台处于下限位置时被上行用升降梯的底部触发动作使得行程开关接通、并能够在升降台离开下限位置时复位使得行程开关断开;双作用气缸的本体固定在上行用升降梯的护板外壁面上,挡板固定在双作用气缸的活塞杆上,该挡板能够在双作用气缸的活塞杆伸出时完全遮挡或者部分遮挡在上行用升降梯的进料口上、并能够在双作用气缸的活塞杆缩回时让开上行用升降梯的进料口。本发明提高了PECVD设备的工作可靠性。 | ||
搜索关键词: | 板式 pecvd 镀膜 设备 上下 传送 系统 防压框 装置 | ||
【主权项】:
一种板式PECVD镀膜设备上下料台传送系统的防压框装置,所述上下料台传送系统包括上行用升降梯(1)、上方位置传送机构(2)和下方位置传送机构(3),上行用升降梯(1)的护板(101)设有用于位于下方位置的进料口(101a)和位于上方位置的出料口(101b),上行用升降梯(1)内部的升降机构上安装有升降台(4),该升降台(4)循环运行在上行用升降梯(1)对应于进料口(101a)的下限位置与对应于出料口(101b)的上限位置之间,以将被下方位置传送机构(3)由进料口(101a)送入的石墨框(8)从出料口(101b)送出到上方位置传送机构(2),其特征在于:所述的防压框装置包括电源、行程开关(SQ)、两位五通电磁阀(1Y)、气源(CDA)、双作用气缸(QG)和挡板(DB),其中,两位五通电磁阀(1Y)的进气口(p)在通电时与第一出气口(a)连通、在断电时与第二出气口(b)连通,双作用气缸(QG)的活塞杆(QG‑a)在第一进气口(k1)通气时伸出、在第二进气口(k2)通气时缩回;所述行程开关(SQ)和两位五通电磁阀(1Y)的控制端串联在电源的输出端正极与负极之间,所述两位五通电磁阀(1Y)的进气口(p)与气源(CDA)连通、第一出气口(a)与双作用气缸(QG)的第二进气口(k2)连通、第二出气口(b)与双作用气缸(QG)的第一进气口(k1)连通;所述行程开关(SQ)安装在所述升降台(4)的底面上,行程开关(SQ)的触头能够在升降台(4)处于下限位置时被上行用升降梯(1)的底部触发动作使得行程开关(SQ)接通、并能够在升降台(4)离开下限位置时复位使得行程开关(SQ)断开;所述双作用气缸(QG)的本体(QG‑b)固定在所述上行用升降梯(1)的护板(101)外壁面上,所述挡板(DB)固定在双作用气缸(QG)的活塞杆(QG‑a)上,该挡板(DB)能够在双作用气缸(QG)的活塞杆(QG‑a)伸出时完全遮挡或者部分遮挡在所述上行用升降梯(1)的进料口(101a)上、并能够在双作用气缸(QG)的活塞杆(QG‑a)缩回时让开所述上行用升降梯(1)的进料口(101a)。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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